国内薄膜沉积设备市场潜力巨大,国产厂商份额提升空间广阔。
主要厂商中,
北方华创的 PVD 技术覆盖逻辑和
存储芯片金属化制程,CVD 拓展了 DCVD 和 MCVD 等产品,HDPCVD 和高介电常数 ALD 实现量产;
拓荆科技拥有全系列 PECVD 薄膜材料设备,PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD 等产品已产业化;
中微公司的 CVD 钨设备通过存储客户端验证,并开发了 HAR 钨设备;
微导纳米是国内首家将量产型 High-kALD 设备应用于集成电路前道生产线的厂商,其产品覆盖多种薄膜材料。
从营收来看,2023 年北方华创营收超 60 亿元,拓荆科技 25.7 亿元,微导纳米 1.2 亿元。2023 年中国薄膜沉积设备市场规模约 72.8 亿美元,国产厂商本土市占率不足 20%,份额提升空间大。
全球半导体清洗设备市场高度集中,海外厂商占据垄断地位。根据
盛美上海 2024 年年报数据,全球半导体清洗设备市场高度集中,尤其在单片清洗设备领域 DNS、TEL、LAM 与 SEMES 四家公司合计市场占有率达到 90%以上,其中 DNS 市场份额最高,市场占有率在 33%以上。本土 12 英寸晶圆厂清洗设备主要来自 DNS、盛美、LAM、TEL。海外厂商凭借可选配腔体数、每小时晶圆产能、制程节点上领先等优势,占据全球清洗设备市场垄断地位。2023 年全球半导体清洗设备 DNS、TEL、LAM、SEMES 分别占比 37%、22%、17%、10%,中国厂商起步相对较晚,市占率较低,盛美上海占比 7%,排名第五,国产替代空间仍然广阔。