光刻机相关信息

上海宇量昇科技有限公司成立于 2022 年 7 月 29 日，是一家专注于光刻机研发与生产的企业，其发展历程如下：成立背景：光刻机是半导体制造的核心设备，长期被国外少数企业垄断。为了突破这一技术瓶颈，国内相关企业和科研机构开始加强合作，共同攻克关键技术。在这样的背景下，上海宇量昇科技有限公司应运而生。成立初期：2022 年 7 月，上海宇量昇科技有限公司由上海科技 创业投资集团全资子公司创科微和新凯来各持股 50% 共同控股成立，上海光机所等科研机构也参与了联合成立。公司注册资本 100000 万人民币，实缴资本 20000 万人民币，法定代表人为刘君。技术研发与突破：公司成立后，专注于 DUV 光刻机的研发，整合上海光机所等技术资源，推进 193nm 浸润式 DUV 技术研发。2025 年，据报道中芯国际 已开始对其生产的 28 纳米 DUV 光刻机进行评估和测试，该设备采用浸没式技术，可利用 “多重曝光技术” 生产 7 纳米芯片。持续发展：2025 年，有消息称宇量昇正全力攻坚 EUV 光刻机技术，目前已进入关键阶段。公司的发展得到了众多关注，其背后的股东以及相关科研机构的支持，为其在光刻机领域的持续发展提供了有力保障。