这轮光刻机“炒什么”以及炒“什么”？

除了最近整个市场情绪更偏向于科技自主可控外，近期还有以下变化，使得光刻机从之前的概念性题材，变成有更具基本面的产业性题材！！

事件驱动1：海外制裁脱钩力度进一步加大，尤其是美国10月开始调查国内公司在台积电 流片情况，更被迫国内公司将供应链从海外进一步转向国内。
事件驱动2：**nm光刻机开始准备上产线，从之前实验室项目性验收到了可以期待量产使用商业化检验的阶段。
事件驱动3：上面宣传态度口径转变，光刻机逐步走向明面。最近的变化是相关产业链公司敢正大光明的提光刻机了，尤其永新光学 在公开电话会上大谈特谈。而过去相关产业链公司谈论光刻机时都扭扭捏捏，不敢多讲。现在很明显是上面的宣传口径开始松口，否则这些公司自己是绝对不敢挑头。



光刻机，这个被誉为“工业皇冠上的明珠”的高精尖设备，是半导体制造过程中不可或缺的核心设备，它直接关系到芯片制程工艺的进步与集成电路行业的前沿水平，同时也是我们自主可控战略中的最后一块拼图。

回顾近5年来市场对于光刻机题材的炒作，本轮光刻机的炒作与以往不同之处在于，更加倾向于光刻机而非光刻胶，之前往往把这二者混为一谈，通常情况光刻胶的炒作力度要远远大于光刻机。从最早开始的2020年3月算起，基本是清一色的光刻胶，以容大感光 、南大光电 为代表。

光刻机概念公司很多，即便缩小到真的实锤参与上海微和HW光刻机的公司，也能列出一打来，难以聚焦。而现在市场上，最重要的就是辨识度。这种辨识度，可以是环节价值量最大，可以是当前正宗的产业链，可以是叠加最火的重组概念，可以是北交所唯一，总之要一眼可以看出跟其他家不一样来。

一、茂莱光学 ：环节价值量最大！

高精度、高价值的光刻透镜：投影物镜是光刻机中最昂贵、最复杂的核心部件之一，单片镜片价值可达上万美元。光刻机中光学 元件主要应用在曝光、照明、能量探测，光路系统等场景。

光刻机曝光系统包括照明系统和投影物镜。



高用量、大体量的光刻透镜：典型的投影物镜可包含高达 30 块镜片，60 个光学表面，直径最大达 0.8m，重量可达 500kg。



目前，上海微电子目前实现了 90nm 制程的光刻机量产，更高制程的前道光刻设备亟待攻克，离不开国产光学厂商的支持。目前，茂莱光学主要为光刻机光学系统提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜，以及用于工件台位移测量系统的棱镜组件。

二、永新光学：光刻机正宗供应链+并购预期

1.产业链：介入光刻业务很早且深入，是供应链中重要一员，但未做大量宣传。（代表着光刻机宣传风口转向）虽然纳米光刻设备到了量产阶段即产学研用的“用”阶段，光刻的国产替代大方向确定，H厂商牵头会加快进度。

2.并购计划：

并购时机与考量因素：目前一级市场惨淡，国家倡导一二级并购且一级资产便宜，公司负债率低（约10%）且账上资金多。公司认为现在是并购好时机，正在酝酿考虑，加大资源判断力 度，有协同效应（所以应该还是并购光学、光刻产业方向），不跨行业，会继续寻找能赋能、用好资源的并购对象。

光刻机技术进展 ：深紫外光刻机（纳米以上到90纳米范围等）相关技术国际厂商已做多年，国内在光刻镜头方面有国家队承担，还有膜厚测试等环节也很重要，刻度检测涉及多种设备和专业知识，国内在干涉仪方面还有提升空间，但深紫外光刻机已到试用阶段，条件越来越成熟，进展良好，若能持续改进，将覆盖芯片大部分业务。

由此可见，永新光学，已凭借最新光刻机正宗供应链重要成员的质地，叠加并购预期，应该成为引领这波光刻机龙头。