纳米压印:另类光刻技术,或实现弯道超车
◇驱动:2023年9月14日盘后,网传纳米压印光刻技术为光刻技术中离产业最近的。
◇技术:纳米压印是一种微纳加工技术,它采用传统机械模具微复型原理,能够代替传统且复杂的光学光刻技术。日经新闻网称,对比EUV光刻工艺,使用纳米压印光刻工艺制造芯片,能够降低将近四成制造成本和九成电量,铠侠、
佳能 等公司则规划在2025年将该技术实用化。
◇降低成本:佳能的研究显示,其设备在每小时80片晶圆的吞吐量和80片晶圆的掩模寿命下,纳米压印光刻相对ArF光刻工艺可降低28%的成本,随着吞吐量增加至每小时90片,掩模寿命超过300批次,成本可降低52%。此外,通过改用大场掩模来减少每片晶圆的拍摄次数,还可进一步降低成本。
◇相关公司:
苏大维格 :公司相继开发多个系列覆盖纳米级和微米级的
光刻机与压印设备,已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力,并在积极布局。
利和兴 :公司二代全自动纳米压印设备的研发项目处于研发测试阶段,尚待后续验证。
腾景科技 :公司在进行纳米压印衍射波导片产品的研发。
清越光电:公司利用仿真模拟参数设计和纳米压印工艺形成微透镜聚光效应进一步提高光取出效率,从而提高产品亮度。
京华激光 :公司核心技术人员陈金通参与或主导的“紫外光固化微纳米压印材料的研究与开 发”等被评为市级科技项目。
汇创达:微纳米热压印工艺目前主要用于背光模组产品。
腾景科技:公司在进行纳米压印衍射波导片产品的研发。
水晶光电:公司有纳米压印技术,主要用在半导体光学产品中。