光刻机，芯片，华为相关还能接着强吗？

光刻机核心分支——多重曝光，本次华为7nm芯片，其中最核心的步骤为多重曝光，是绝对增量环节，后续有望成为新的科技分支接力光刻机行情。其中，光刻胶清洗剂作为重要耗材，随着多重曝光技术的推进，用量大幅增加！
重点关注红宝丽 ，公司一异丙醇胺可以用于电子化学品光刻胶清洗剂，是清洗剂上游必需品，有望深度收益于光刻胶多重曝光工艺。相较于其他光刻胶个股，滞涨严重，有较大的补涨空间。

另外四川长虹 ，光迅科技 ，铭普光磁 ，华工科技 ，张江高科 ，光库科技 支支都与华为有关哦。

所以华为线继续。