纳米压印技术龙头

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AS­ML再遭重击，NIL工艺路线10nm先进工艺无需光刻机，为中国芯片指明新方向
近日日本方面报道指东京理科大学已将NIL工艺已突破到10nm以下，这是全球首款无需光刻机的芯片制造工艺，代表着先进工艺的另一条路线，对于以光刻机为主业的AS­ML来说无疑是重大的打击。
媲美光学光刻，日本学者紫外硬化纳米压印实现 10 纳米以下分辨率

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深耕微纳加工领域，在微纳光学及微电路加工领域均属行业翹楚。作为国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商，公司通过多年技术攻关，现已掌握纳米压印光刻底层核心技术。公司产品可广泛用于微纳光学（包装防伪、交通反光膜材、液晶显示导光板）及微电路（TFT触控、mi­ni LED显示）制造领域。