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光刻胶技术突破

25-10-27 09:27 272次浏览
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国家标准委网站显示,我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外(EUV)光刻胶测试方法》作为拟立项标准,10月23日开始公示,截止时间为11月22日。标准的起草单位包括上海大学、张江国家实验室、上海华力集成电路制造有限公司、上海微电子装备(集团)股份有限公司。
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25-10-27 15:15

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晶瑞电材入股上海高光微半导体科技公司

2025年10月27日 14:49
来源:人民财讯 

企查查APP显示,近日,上海高光微半导体科技有限公司发生工商变更,注册资本增加至1312万元,新增股东晶瑞电材( 300655 ),持股比例约为3.65%。企查查显示,上海高光微半导体科技有限公司成立于2024年8月,法定代表人为高远达,经营范围包含:电子专用材料制造;新型膜材料制造;电子元器件制造等,现由高远达、长沙韶光芯材科技有限公司等及晶瑞电材共同持股。
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25-10-27 11:52

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