奥普光电在光刻领域具有较强的技术实力,主要体现在以下几个方面:
• 核心部件研发能力强:在高精度光学镜头、双工件台运动控制系统以及掩模台定位技术等关键环节取得显著进展,自主研发的投影物镜系统分辨率达到28nm制程水平,已通过下游客户的验证测试。其独家供应的
光刻机双工件台曝光系统,定位精度达到1nm,通过验证,且在高精度光学镜头、掩模台定位技术等方面的突破,提升了系统整体精度。
• 光栅编码器技术领先:子公司禹衡光学是国内光栅编码器龙头,高精度绝对式光栅尺精度
达纳米级,打破日本、德国垄断,市场份额35%,其产品可应用于光刻机工件台和高端数控机床,为设备提供精确的位置反馈。
• 拥有全链条技术能力:依托中科院长春光机所的技术积淀,形成“产学研用”协同创新机制,研发投入占比高。公司构建了覆盖光学设计、精密加工、系统集成的全链条能力,相较国内竞争对手更易实现技术协同。
• 参与多项光刻项目:深度参与国家“02专项”等半导体装备攻关项目,政策资源获取能力突出。与深圳国资旗下新凯来合资成立长光集智,研发极紫外(EUV)光刻机物镜系统,定位精度达0.8nm,适配3nm制程,对标
ASML 核心供应商蔡司。还为上海微电子提供光刻机光学镜片,部分参数接近国际头部厂商水平,并且布局EUV光学元件镀膜技术,参与下一代光刻机预研项目。———-摘自豆包。继续吹票