盛剑科技 是中国泛半导体产业绿色科技服务的领军企业,在国产替代
光刻胶方面主要有以下布局:
• 技术合作引进:2022年8月与日本长濑化成达成技术合作,引进FPD光刻胶剥离液和蚀刻液技术。2024年3月20日,又与长濑化成在半导体先进封装行业RDL光刻胶剥离液技术方面达成深度合作,共同探索电子化学品材料发展新方向。
• 产能建设:在上海化学工业区建成1.8万吨/年剥离液产线,合肥基地规划3万吨产能,预计2025年投产。合肥基地还同步布局蚀刻液(Cu/Al/Ag)产线,形成“剥离-蚀刻”工艺闭环,为大规模生产光刻胶剥离液等产品提供产能保障。
• 专利储备:申请光刻胶相关专利18项,授权11项,涵盖配方优化、杂质控制等核心技术。如开发出低VOCs排放的水系剥离液,较传统溶剂型产品环保性提升40%,以技术创新提升产品竞争力。
• 市场拓展与客户合作:其光刻胶剥离液产品已通过
中芯国际 、
华虹半导体 验证,并于2024年实现批量供货,覆盖28nm及以上制程。还与
中芯国际 联合开发14nm先进制程用剥离液,支持FinFET工艺良率提升至95%,深度绑定头部客户,助力国产芯片制造。