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苏大维格300331 隐形冠军+弯道超车,看好纳米压印光刻

24-11-14 10:16 588次浏览
regal88
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公司各业务事业群具体如下:

1、新型 3D 印材和公共安全防伪材料事业群公司新型 3D 印材业务包括镭射膜、镭射纸、3D 转移材料等新型印材产品,可应用于烟标、酒标、化妆品、日化用品等包装以及体育鞋服、卡牌盲盒等领域,具有美观、防伪的作用。公司响应国家绿色包装号召推出的 3D 光学转移材料,应用环保 UV 材料,实现整个制程挥发性有机化合物零排放,拥有更好的光学效果、更好的纸张印刷性能,具备立体美观、无塑料膜、可自然降解和成本等优势,可为下游客户提供定制化绿色包装方案。近年来,公司积极拓展该类产品在体育鞋服、奢侈品防伪、卡牌盲盒等领域的应用,例如,公司已与国内体育用品龙头企业开展合作,拟将相关纹理材料用在运动服饰、运动鞋及相关“国潮”用品方面;公司与具有 IP 资源的厂商合作,推出相关卡游产品,积极布局卡游盲盒市场。
公司公共安全产品为公共安全防伪膜,是我国行驶证、驾驶证唯一指定的光学视读防伪材料;同时,公司已开发新一代视读防伪材料,并正在与相关方积极对接、验证新型防伪材料在国家票据和证件防伪领域的应用。
2、消费电子 及汽车领域微纳新材料事业群(1)新型显示光学材料领域,公司采用热压工艺生产的导光板、导光膜等产品属核心导光器件,可用于各类液晶平板显示背光组件、LED 平板照明、键盘背光等消费电子产品,具有开发周期短、模具成本低、产品加工的厚度和尺寸更广、品质更稳定、工艺绿色环保等优势,在中大尺寸领域逐步取代传统的印刷和注塑导光板;同时,公司基于自身技术优势开发的新一代的超薄高亮导光材料已大规模量产,产品占比不断提升。
在前光显示领域,公司于 2022 年顺利协助国内消费电子龙头企业 H 公司推出其首款墨水屏产品并实现量产和独家供应,后续也成功开发了国内及台湾显示屏、移动终端龙头企业客户。
(2)公司柔性透明导电材料目前主要量产应用为中大尺寸触控产品,包括柔性导电膜和触控模组,可应用于中大尺寸电容触控屏、中大尺寸智能终端,是当前中大尺寸终端设备最简洁、方便、自然的人机交互解决方案。公司立足中大尺寸触控产品市场,为智能家庭、远程会议、智能教育、工业控制等应用场景提供定制化产品。公司与华星光电合作在显示屏产线上进行基于偏光片的触控集成技术已获验证通过,顺利量产后将协助显示屏厂商形成新的产品线,有利于快速提升中大尺寸电容触控技术在终端应用的渗透率;同时,公司也在拓展与国内某智能语音及语音技术头部企业的合作范围,努力为相关 AI 大模型智能触控终端硬件提供相关触控技术与产品支持。
基于柔性导电材料的特性,公司相关技术在柔性可折叠电容触控、Mini LED 透明电极膜、太阳能 电池金属电极膜、5G 透明天线、电致变色玻璃等领域也有较大应用潜力,公司正验证与推进上述领域产品的开发与量产工作。
(3)纳米纹理膜领域,公司通过构建微纳米层次和结构的组合变化,形成独特的设计元素,进而制造的纳米纹理膜可为相关手机厂商和汽车厂商的产品提供丰富的视觉效果和色彩展示,从而提升其产品的外观档次和独创性。目前,公司纳米纹理膜材料主要应用于汽车智能内饰等领域,相关产品已成功在某国际头部汽车品牌相关车型中实现小规模的批量化生产,待后续更多汽车品牌及车型应用后量产及销售规模有望快速扩大。同时,公司也在努力推进相关隐藏显示材料以及抬头显示、光场显示等技术在汽车显示领域的应用。
3、高端智能装备事业群
公司的微纳光学高端设备主要包括激光直写光刻设备和纳米压印光刻设备等,均系公司自主研发设计生产,在满足公司研发与生产需求的基础上,通过持续的设备迭代与升级,逐步构建了公司模块化、知识密集、可升级和快速配置的微纳制造平台,为公司技术与产品的开发、维护等提供了核心技术支持。依靠多年的技术研发,公司形成了大幅面图形直写、深纹/3D/灰度光刻等一系列拥有自主知识产权的直写光刻核心技术及纳米压印技术,公司从成立初期开发干涉光刻系统,逐步迭代延伸出了紫外高速干涉光刻、任意图形直写光刻、多类型衬底基片直写光刻、大型紫外 3D 光刻等多系列、多型号的激光直写光刻设备,经历了自用——反馈改进——销售给高校及科研单位——反馈改进——销售给企业用户的较为漫长的过程,应用领域也逐步从证卡防伪拓展到透明导电薄膜、AR 波导片及裸眼3D 光场屏等衍射光学器件,再扩展到泛半导体器件等,可为国内外高等院所和相关企业提供前沿性和实用性纳米光刻工具。
(1)直写光刻设备公司目前对外销售的光刻设备主要为激光直写光刻设备。全球激光直写光刻设备市场约数十亿人民币规模,目前被欧美厂商主导。公司激光直写系列光刻设备凭借写入模式、大幅面微纳 3D 结构制备等优势在国内科研领域享有一定的知名度及市场占有率,并逐步得到更多的企业类客户的使用。目前,公司激光直写光刻设备在国内知名高校及科研院所等科研机构享有一定的知名度和较为广泛的应用,企业客户是公司光刻设备近年来重点拓展的领域,目前已实现对国内部分行业的头部企业的销售,客户应用领域包括用作二维材料、半导体材料、衍射光学材料、微流控等领域的研究,以及部分半导体器件的研发及小批量试制、微纳光学材料及光通讯器件的制作等领域。此外,公司也在积极拓展直写光刻在半导体掩模板和 IC 载板等领域的应用。
(2)纳米压印光刻设备纳米压印光刻设备(即纳米压印设备),是公司微纳光学产品批量化生产核心装备,公司也是国内首批实现纳米压印技术产业化的公司。公司主要产品均采用了直写光刻设备制作模具,再用纳米压印设备进行批量化复制的生产制作工艺。经历多年发展,公司自研的纳米压印光刻设备生产与研发应用领域涵盖了各类微纳光学材料及裸眼 3D 等新型显示、AR 波导等光子芯片等衍射光学材料等,并紧随国际纳米压印技术发展趋势,也在探索与研发纳米压印光刻技术在集成电路领域中的应用。公司纳米压印光刻设备目前主要为自用,对外销售金额较小。此外,公司也在探索纳米压印光刻在微流控、生物芯片制造方面的应用。
(3)其他类型光刻设备除激光直写光刻设备和纳米压印光刻设备外,公司基于自身光刻技术与相关行业的降本增效需求,开发了投影扫描光刻设备,拟应用在 IC 载板、封装及光伏铜电镀图形化等领域;此外,公司也在积极探索开发高制程掩模等领域的光刻相关技术。目前,公司新布局研发的上述两类光刻技术尚未实现收入。
4、反光材料事业群公司反光材料产品包括车牌膜、高端微棱镜型反光膜等不同等级和规格反光膜、反光标识、反光布和发光膜等,产品涵盖交通安全、车辆运行安全、个人防护领域。公司不同规格、型号产品广泛应用于机动车号牌、各等级道路交通标识、广告牌、宣传牌、特种车辆及农机车辆的安全警示、防护服等领域,发光膜主要应用于安全导向、地名标识、消防应急、城市交通、矿井等标志标牌的制作。
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regal88

24-11-17 21:54

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日前,由TCL联合中国新型显示产业链上下游企业、相关高校、科研院所等单位成立的“国家新型显示技术创新中心”正式获批,作为新型显示领域唯一的国家级技术创新中心,它或将彻底改变中国乃至全球显示产业的发展走向。

苏大维格凭借20余年积累的技术平台和核心装备优势,与TCL华星光电一道,以突破我国新型显示材料、工艺、器件和装备等重大关键共性技术为主要任务,以引领新型显示技术发展并推动我国新型显示产业升级为责任和使命。

助力我国:

实现显示技术从跟随到原创、再到引领的转变;

实现从生存发展到创新驱动的转变

实现从单一产品开发到全产业链协同创新的转变。
regal88

24-11-16 15:16

0
到年底的热点应该是国产替代  苏大维格应该有一席之地。
regal88

24-11-15 10:28

0
目前,公司直写光刻设备已服务国内百家企业高校和国家级研究所、出口发达国家,并实现与国内高新龙头企业的长期合作。科技部和财政部联合发布的通知(国科发基〔2020〕342号),激光直写光刻设备中前排出现的唯一国产品牌。

此外,公司还能提供应用于IC芯片投影式光刻设备的核心部件定位光栅尺产品,并在积极拓展光刻机设备在太阳能光伏电池铜电镀方案图形化方面的应用。
regal88

24-11-15 10:25

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高端智能装备方面,苏大维格的微纳光学高端设备主要包括直写光刻设备和纳米压印设备两类,均系公司自主研发设计生产,在满足公司研发与生产需求的基础上,通过持续的设备迭代与升级,逐步构建了公司模块化、知识密集、可升级和快速配置的微纳制造平台。
苏大维格表示:“历经20余年的努力,公司研制的紫外直写(数字)光刻机、大型紫外计算光刻机、纳米压印光刻系统、大面积干涉光刻机等装备,在企业、高等院校所被广泛应用,服务于国家战略、产业科技进步和人才培养,为开辟新赛道,培育新产品新技术,做出突出贡献。”
目前,公司直写光刻设备已服务国内百家企业高校和国家级研究所、出口发达国家,并实现与国内高新龙头企业的长期合作。科技部和财政部联合发布的通知(国科发基〔2020〕342号),激光直写光刻设备中前排出现的唯一国产品牌。

此外,公司还能提供应用于IC芯片投影式光刻设备的核心部件定位光栅尺产品,并在积极拓展光刻机设备在太阳能光伏电池铜电镀方案图形化方面的应用。

在产品突破上——
◆ 研制的110吋紫外三维直写光刻装备投入工业运行,填补国内空白。攻克超大面积上复杂微纳形貌的高精度与高效率兼容性光刻国际难题,实现海量数据网络协同与实时高速直写光刻。
国家科技进步奖二等奖
(2001年度,2011年度,2019年度)
首届“金燧奖”中国光电仪器品牌榜金奖
来源:苏大维格
◆ 攻克卷对卷纳米压印技术微纳结构模具、系统、材料和工艺四大难题,在国际上率先实现工业化,自主研制行业首套卷对卷套准纳米压印工艺设备在国内外新型显示、公共安全和柔性传感等领域规模应用。
江苏省科学技术一等奖3项
(2011年度、2018年度、2022年度)
来源:苏大维格
◆ 发明了“多台阶二元光学数字光场叠加写入模式”和“灰度数字模板”,通过光场灰度调控与积分写入,将微纳3D形貌的直写效率提高2ⁿ倍。通过算法、内存数据、光场的同步操作、连续扫描-脉冲曝光,单次扫描实现多次叠加,实现了微纳3D形貌快速制备。

来源:苏大维格
在设备研发上——

光刻技术的发展方向是:数字化、多维化。20多年来,苏大维格坚持原创性光刻技术与设备的自主开发,研究数字光场调控(振幅-相位联合)新机理,提出了数字化三维直写光刻系统的新构架、新算法。
『中小幅面光刻设备』
小型直写光刻系统(4”~8”)

紫外三维光刻系统(8”~12”)
*支持亚波长线宽的直写光刻系统,支持100nm线宽周期结构@355nm波长、0.35um线宽的图形和复杂微结构形貌等套刻制备,还支持偏振光刻/正交偏振光刻功能,用于手性偏振敏感的光子器件开发。
『中大型光刻设备』
紫外三维计算光刻设备(32”~55”,75”~120”)*支持0.5um以上图形化、微纳结构的大面积直写光刻。应用于大尺寸透明电子、立体成像、光场空间成像、大口径平面光学器件等产品开发。
『像素化纳米光刻设备』
像素化干涉光刻、像素化偏振光刻*光刻性能:像素光栅周期(>250nm@355nm波长下)、具有小于1nm的结构调控精度、任意光栅取向和周期光场的调控能力,支持8”~32”像素纳米光栅大面积直写光刻。已应用于光场3D显示、超表面和光子器件等前沿研究与应用。
『光伏图形化高速投影扫描光刻设备』
高速图形化*消除感光胶厚度不均匀、基片翘曲和衍射效应与槽型的影响,深槽光刻速率<1s@面积210mmx105mm,光场拼接与同步扫描光刻模式,优异的槽型一致性和均匀性。

坚持自主创新,助力产业升级
作为国内极少的、在光刻技术与应用领域持续做原创性创新的企业,苏大维格以自主知识产权的技术与装备,为破解中国“两头在外”问题,做出了贡献和示范。
公司先后获3项国家科技进步二等奖,7项中国专利优秀奖和5项江苏省科学技术奖、“2022中国智能制造十大科技进展”等荣誉。

同时,公司还建有国家地方联合工程研究中心(国家发改委批准)、江苏省柔性光电子与制造技术重点实验室 (2022年验收全省第一)和国家知识产权示范单位(千余项专利)等。
苏大维格表示,未来,公司将继续提升微纳制造业快速发展新产品、新技术和新产业的能力,为新兴领域(三代半导体工艺、功能表面、新型显示、 空间感知、超表面、太赫兹、二维材料、元宇宙MEMS 、微光学、柔性 光电子与透明电子材料、光掩模板)的研究,提供全数字化光刻加工的新路径,助力实现换道超车。为国家的相关底层关键技术进步、产业核心竞争力的提升,做持续的努力与贡献。
regal88

24-11-14 16:17

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贵公司纳米压印技术有用于半导体比如闪存压印吗?

答:您好,公司已注意纳米压印在存储芯片等领域的应用潜力,正在进行相关技术和设备的研发,感谢您的关注,谢谢

华为最近推出的抬头显示系统,是否用到贵公司的产品或技术?贵公司的相关产品何时能够量产上市?

答:您好,公司目前正就AR-HUD技术与行业领先的智能汽车系统方案商以及相关产业方进行深度对接和产品测试,后续进展及上车应用敬请关注公司后续公告与资讯
regal88

24-11-14 16:16

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5月16日第十九届武汉“中国光谷”国际光电子博览会,公司展示的三维激光直写设备,攻克了大面积微纳模具制备国际难题,这里是指掩模版制备吗?


答:您好,公司在无掩模光刻领域,研制了各类激光直写光刻的关键技术、软件和装备,主要应用于超精密柔性传感器、柔性电子、新型显示、功能光电材料以及掩膜版制版等领域。公司大幅面紫外光刻直写设备,重要特色是支持3D微纳深结构制备,可为裸眼3D显示、光子晶体、光子芯片、半导体功率芯片、掩膜版制版等领域的研发和制备提供前沿性和实用性的光刻工具
regal88

24-11-14 16:15

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公司在AI领域是否有相应的产品储备?AI技术在各行各业应用落地,对公司来说,是否会带来巨大的销售市场空间? 


答:您好,公司研发的衍射光波导镜片和投影屏等衍射光学器件是AR/VR及AR-HUD的核心硬件,在AR/VR等智能眼镜,以及AR-HUD的支持下,用户能够实现语音+文字的信息获取,并配合SAM可进行任意图像切割,能够将眼前所见进行实时搜索及信息交互,是消费电子智能汽车等产业界的重点拓展方向,AR/VR终端设备以及搭载AR-HUD的智能汽车有望成为AI应用的核心受益终端
regal88

24-11-14 16:15

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贵公司研发的芯片光刻机掩膜版、 OLED 掩膜版进行到哪个阶段了?有样品向上海微电子等相关企业送检了吗?在掩膜版的生产销售领域,贵公司有何规划?


答:您好,公司已向相关客户提供IC芯片光刻机用定位光栅尺产品并实现销售。公司在IC芯片掩膜版、OLED掩膜版领域的设备研发等进展请关注公司后续公告或资讯
regal88

24-11-14 12:53

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20年来,苏大维格全体成员,全心全意,全力以赴、长期坚持自主创新、自立自强,光刻机领域,研制的紫外直写(数字)光刻机、大型紫外计算光刻机、纳米压印光刻系统、大面积干涉光刻机等,在企业、高等院校所应用,服务于国家战略、产业科技进步和人才培养,为开辟新赛道,培育新产品新技术,做出突出贡献。

SVG创新历程

012003纳米压印技术与设备研发
率先实现柔性材料制造工业化

022003-2007基于SLM激光光刻系统研发和应用江苏省科技进步一等奖
032009在国家发改委项目资助下完成纳米压印光刻技术与系统的研究与验收
042011宽幅微纳图形化制造技术与应用国家科技进步二等奖
052011卷对卷微纳压印关键技术与应用江苏省科技奖一等奖
062011主持承担国家863计划先进制造领域-重大项目
072012纳米直写光刻系统与检测仪器
国家重大科学仪器设备开发专项
直写光刻机等设备进入应用
082016参加国家“十二五”科技创新成就展
092019面向柔性光电子的微纳制造关键技术与应用国家科技进步二等奖
102020研发成功110吋网络协同计算的紫外三维计算光刻系统
112022基于数字化三维光刻的微纳智能制造与应用入选中国智能制造十大科技进展
122022 激光直写系统荣获首届“金燧奖”金奖
13近年…国家政策鼓励高端仪器设备国产化SVG多种型号直写光刻机在国内占比迅速提升…

苏大维格是国内极少的、在光刻技术与应用领域持续做原创性创新的企业,不仅在半导体工艺领域、还开拓了光子领域、新型柔性传感领域、新颖材料领域、元宇宙领域的头部企业和品牌应用。以自主知识产权的技术与装备,为破解我国“两头在外”问题,做出了贡献和示范,成为我国产学研合作创新的典型,得到上级领导、各界和同行的高度肯定,先后获3项国家科技进步二等奖,7项中国专利优秀奖和5项江苏省科学技术奖一等奖、“2022中国智能制造十大科技进展”等荣誉。
regal88

24-11-14 12:48

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