芯片格局

光刻机技术壁垒极高，呈现寡头垄断格局。全球前三供应商ASML、Canon、Nikon占据绝大多数市场份额，其中，荷兰厂商ASML（阿斯麦）市场份额占比82.1%，一家独大。Canon市场份额占比10.2%，Nikon市场份额占比7.7%。

产品为ASML的DUV光刻机：TWINSCAN NXT:2000i。以NXT:2000i为例，各子系统拆分如下：上海微电子负责光刻机设计和总体集成，北京科益虹源提供光源系统，北京国望光学提供物镜系统，国科精密提供曝光光学系统，华卓精科提供双工作台，浙江启尔机电提供浸没系统；芯碁微装 直写光刻
从全球市场格局来看，薄膜沉积设备主要由日本、美国和欧洲的厂商主导。据Gartner数据，在PVD设备方面应用材料 具有绝对份额优势，占据85%的市场份额；CVD设备 市场来看，应用材料、泛林半导体和东京电子是CVD设备市场中的佼佼者；ALD设备中，东京电子和ASMI是行业龙头，分别占有31%和29%的市场份额。国内厂商中，北方华创 、拓荆科技 、中微公司 、微导纳米 薄膜沉积设备研发进展较为领先。