光刻三雄：北同方，南张江，偏愚东北奥普光

现在市场好多人已经认识到清华SSMB和中科院HEPS的区别了。

从实用性角度来看，中科院HEPS更好落地，从先进性来说，清华的SSMB更前端

上海微电子的代表是张江高科 和上海电气

长春光电所的代表就是奥普光电

最新的清华SSMB的代表就是本篇着重介绍的同方股份

清华ssmb团队主要人物是：康克军 唐传祥

新型粒子加速器光源有望助力光刻机研发中德研究团队在《自然》发表实验成果
2021年02月26日 11： 焦点 稿件来源：新华社
新华社北京2月25日电 清华大学工程物理系教授唐传祥研究组与德国的研究团队25日在《自然》杂志上发表论文，报告了一种名为“稳态微聚束”（SSMB）的新型粒子加速器光源的原理验证实验。据悉，这项重要研究有望为光子科学研究提供新的机遇，并助力EUV（极紫外）光刻机的自主研发。
据了解，在实验中，研究团队利用波长1064纳米的激光操控环形加速器内的电子束，使电子束绕加速器一整圈（周长48米）后形成精细的微结构，即“微聚束”。研究人员发现，微聚束会在激光波长及其高次谐波 上辐射出高强度的窄带宽相干光，通过探测该辐射可验证微聚束的形成，由此证明了电子的光学相位能以短于激光波长的精度逐圈关联起来，使得微聚束可被“稳态”地保持，从而验证了SSMB的工作机理。
“SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源。”唐传祥教授表示。光刻是集成电路芯片制造中复杂和关键的工艺步骤，光刻机是芯片产业链中必不可少的精密设备。目前业界公认的新一代主流光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV光刻。而大功率的EUV光源是EUV光刻机的核心基础。
“光刻机需要的EUV光，要求是波长短、功率大。”唐传祥说，大功率EUV光源的突破对于EUV光刻进一步的应用和发展至关重要，“基于SSMB的EUV光源有望实现大的平均功率，并具备向更短波长扩展的潜力，为大功率EUV光源的突破提供全新的解决思路。”


通过以上报道可以看出来，唐传祥教授和同方股份有着千丝万缕的关系，该团队的其他人员也都是同方威视公司的骨干人员。

同方股份才是目前最正宗的光刻厂概念龙头

1.清华大佬唐教授唯一有交叉持股的公司。 2.唐教授担任子公司技术主任。 3.子公司同方威视班底清一色清华辐照大佬。

4.公司有做光源加速器，底层技术相通性

$同方股份(sh600100)$