国产替代：光刻机带来的增量逻辑

目前市面上已经有相当多拿到mate60系列手机了，事实证明即便芯片的制程工艺不是最顶尖，自研芯片+自研系统也可以做出旗舰级别的使用体验，这也就意味着一旦国产DUV光刻机交付使用，绝大部分芯片半导体以及相关产业链都可以迅速开展国产替代，而并不用等到国产先进制程EUV光刻机问世——
以此开先河，接下来各大厂商极有可能都会重新开始自研芯片，这就给盘面带来两个预期——
一个是工艺带来的耗材增量预期。目前猜测9000s采用成熟制程DUV光刻机、多重曝光工艺，多重曝光则带来耗材消耗倍增的预期。
掩膜版：一重曝光需要使用一块掩膜版，多重曝光带来增量——冠石科技 、路维光电 、清溢光电 ；
光刻胶——彤程新材 、广信材料 、容大感光 、晶瑞电材 （转债）、南大光电 ；强力新材 、扬帆新材 、双乐股份 、双象股份 ；
设备清洗——蓝英装备 、富乐 德、至纯科技 。$张江高科(sh600895)$