2023/9/10复盘

一、大盘

情绪冰点后的十字星，这里可上可下，向下大概率还是收十字星，倾向于向上的概率大。还得看汇率是否掉头。
量能已经到了前低，再缩量空间已经不大，佐证向上的倾向。

二、板块

强势的是无人驾驶、消费电子、华为概念、卫星导航、军工、半导体、存储以及光刻机、光刻胶；其实还是大科技线；其他方向，如房地产产业链、消费、顺周期、新能源等，都是主跌趋势，近期机会就在华为概念，具体为（由强到弱）：卫星互联网、光刻胶、光刻机、消费电子、半导体。

三、涨停板逻辑复盘

半导体
联合精密 一字助攻，冠石科技 一字开；开盘最强板块，引发高潮。个人理解，一定程度上受前日同花顺 增加光刻机板块的影响；本质是补涨。其中哈空调 这种边角料都涨停，可见情绪已达极致。
从逻辑上讲，本次华为事件明显没有国产光刻机，纯粹情绪博弈；本人预期不高。
个股看，10点之后，便停止发酵，板块回落，明日应该延续分歧，个人预判为大分歧。
冠石两个加速板，张江高科 加速，明日都有大分歧预期；2板断层，应该能留一个，大概率冠石，毕竟盘子小。
个股身份：中军张江高科；弹性先锋冠石，因为光掩膜版作为耗材逻辑更正一点，预期比光刻机高。

华为系
先锋电子 一字板助攻，但明显庄股，且逻辑不对，相博弈庄股的今天应该进，再往后性价比差了点；
华映科技 加速，明日大分歧预期，需要历史级别的量能；
X5的销量肯定不会很高，折叠屏的几个标的预期不会很高；但有研究报告对折叠屏之后取代pad有很高预期，是增量市场，铰链潜在空间很大；
星闪是一个大一些的逻辑，且为启动日，找逻辑纯正且盘子不大的作为备选。

卫星互联网
演绎的逻辑是从华为拓展到全部手机，这样的话，造卫星的其实就逻辑偏离了，只有芯片受益，当然，如果往无人驾驶卫星导航的方向发酵，则是另外的逻辑，今日有这个迹象，无人驾驶异动了。
也是受新手机刺激，午后发酵厉害，本来早盘消息就出来了，但午后才发酵，说明也不是市场最佳选择，而是没得选，这是相较之下的优选项。

其他
机器人 异动，无人驾驶异动，3D打印连续异动；电力和地产作为对立面存在。

四、总结

优选逻辑：星闪、卫星通讯；
备选逻辑：先进封装、存储、铰链。

五、个股逻辑

光刻机板块
同飞信息，液体恒温设备在半导体制造设备领域主要应用于光刻机、刻蚀机、PVD/CVD、研磨抛光机等关键设备的温度控制
联合精密，今年以来公司生产的产品暂不涉及光刻机零部件铸件
张江高科，持有微装公司10.779%的股权
东方嘉盛 ，光刻机寄售维修服务
腾景科技 ，公司多波段合分束器已完成产品开发，进入半导体设备厂供应链
电科数字 ，为半导体装备生产商提供光刻机的控制器
联合光电 ，公司具备生产制造光刻机镜头的技术和能力，公司的光刻机镜头技术为自主研发
上海电气 ，持有上海微电子27.0558%股权
炬光科技 ，为上海微电子等企业提供了半导体激光退火系统以及核心元器件
苏大维格 ，向上海微电子提供了光刻机用的定位光栅产品
赛微电子 ，给ASML提供透镜系统MEMS部件和晶圆制造服务
华特气体 ，用于光刻机的光刻气系列产品都是国内首家，市占率都大于50%
京华激光 ，公司控股的美国菲涅尔制版科技公司是一家多年从事微结构光学技术研发及相关设备制造和维护的企业，在微结构光学方面具有较强的研发实力，尤其在全息光学、菲涅尔猫眼、水晶微结构、浅纹微结构、铂金浮雕等方面研发成果突出，先后研发出多台技术先进、性能突出、与光学制版有关的光刻机设备，并在全球范围内独家供应公司使用
晶方科技 ，子公司Anteryon为全球领先的光学设计和晶圆级光学镜头制造商，是ASML光学平台和晶圆对位传感器的供应商
波长光电 ，公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套，并已交付多套系统用于接近式掩膜芯片光刻工序
富乐 德，公司已研发并量产半导体14nm制程洗净工艺、储备的半导体7nm部品清洗工艺已较为成熟。公司为光刻环节的溶胶显影、涂胶等设备提供精密洗净服务
久日新材 ，子公司大晶信息的有光刻机溶剂，拥有600吨光敏剂产能
泰晶科技 ，公司深耕光刻工艺技术应用于石英晶体十余年，在国内率先实现石英晶体MEMS光刻工艺的产业化、平台化应用，并在技术、工艺、产品上保持了与国际前沿技术水平的同步
芯基微装，公司以直写光刻技术为核心，深耕PCB直接成像设备及自动线系统，已成为 PCB 光刻直写设备国产龙头。同时公司在泛半导体领域深化拓展直写光刻设备在新型显示、先进封装以及新能源光伏等新应用领域的产业化应用
永新光学 ，在半导体制造相关光学部组件方面，公司生产的光刻镜头可应用于PCB光刻设备
富创精密 ，半导体零部件制造的工艺技术达到主流国际客户标准，是ASML的战略供应商
新莱应材 ，真空产品以及气体产品均可以应用到光刻机的设备中
美埃科技 ，为上海微提供了光刻设备所需的洁净过滤产品
茂莱光学 ，括精密光学器件、光学镜头和光学系统
福晶科技 ，研发KBBF晶体(用于激光设备的上游关键零部件)，KBBF晶体是目前可直接倍频产生EUV激光的非线性光学晶体

逻辑纯正的几个方向：
耗材，富乐德
光刻机正宗标的：茂莱、福晶、美埃、新莱、富创、炬光、电科、腾景
晶方、赛微
张江、上海电气

光刻胶

光刻胶主要组分分为树脂、感光剂、溶剂及表面活性剂等添加剂。
溶剂主要使光刻胶各组分分散其中，使光刻胶具备流动性，当前半导体和面板光刻胶所用溶剂主要为PGMEA（丙二醇甲醚醋酸酯，亦简称PMA）；
树脂与感光剂搭配使用，是光刻胶发挥感光作用的主要功能组分，不同类型的光刻胶其树脂和感光剂的成分有很大差别，依感光波长由长到短主要为酚醛树脂-重氮萘醌体系（g线/i线）、对羟基苯乙烯-光致产酸剂体系（KrF）、丙烯酸酯-光致产酸剂体系（ArF）、分子玻璃或金属氧化物体系（EUV）。
其他添加剂包括表面活性剂、稳定剂等。
各类光刻胶中虽然各组分含量存在差异，但树脂含量一般在20%以下，总体来适用波长越短的光刻胶，其树脂含量越低，溶剂含量越高：g线/i线胶的树脂含量在10-20%左右，KrF胶树脂含量在10%以下，ArF胶及EUV光刻胶的树脂含量通常在5%以下。
光刻胶的另一重要组分即为感光剂，g线/i线胶及面板胶会使用包括DNQ（重氮萘醌）在内的光引发剂作为感光剂，而基于化学放大法的现代半导体光刻胶（KrF、ArF、EUV）均使用光致产酸剂作为主要的感光组分。
除树脂和感光剂外，溶剂和其他添加剂如流平剂、表面活性剂等，主要作用为使光刻胶形成均匀分散的溶液体系，其中各品种光刻胶所用溶剂绝大多数为丙二醇甲醚乙酸酯，海外简称PGMEA，国内又简称PMA。
光刻胶成分中占比最高的实际上为溶剂，通常占到80%以上，高端半导体光刻胶在90%以上。各品类光刻胶溶剂基本均为丙二醇甲醚乙酸酯，海外缩写为PGMEA，国内多缩写为PMA。
结合全球半导体及面板光刻胶的需求量，我们对全球中高端光刻胶（面板+半导体光刻胶）溶剂的需求量进行了测算。半导体和面板光刻胶对溶剂需求总量在4-5万吨左右，其中面板胶占据80%以上的市场，半导体胶占比不足20%。面板胶内部，TFT胶溶剂和彩胶+黑胶溶剂占比各40%左右。
国内PGMEA供应商中，上市公司主要包括怡达股份 和百川股份 ，两者分别具备产能5.5和5万吨。电子级PGMEA详细产能暂无公开数据，但电子级PM国内仅怡达股份和德纳天音各具备1万吨产能。

星闪
创耀科技 ，已完成流片
九联科技 ，鸿蒙生态领军伙伴企业
荣联科技
高鸿股份
数码视讯
当虹科技