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华工正源专利技术可将相关工序效率提升1倍
发布时间：2013-09-27 浏览次数：306
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  近日，华工正源数项专利申请获国家知识产权局授权，其中，发明专利“一种条形掩埋分布反馈半导体激光器的制作方法”掌握了光器件核心激光器制作的关键技术，采用本发明方法制作的激光器具有低阈值、低电阻、高可靠性、高成品率等特点，可在更大温度区间环境中稳定工作；实用新型专利“光探测器TO-CAN自动耦合测试系统”相关技术的应用，能缩短耦合与上下料时间，减少人工成本，将产能由原来的90pcs/h提升到180pcs/h，效率提升1倍。

 

  同时获得授权的还有发明专利“一种具有特殊组装结构的光收发合一模块”、实用新型专利“自动弯剪光通讯器件脚的夹具”、“一种实现窄波长间隔波段分离的光学装置”等，上述专利涉及芯片、TO、器件、模块的核心技术，已经用于批量生产，对提升华工正源自主创新及规模生产的竞争优势具有重要意义。