疫情下大屏触控迎来大增量机遇与全自主可控国产光刻机技术突破。
两个关键点：1.革新性的电容触控项目一期5月即将投产，一期产值47亿，利润大概10亿左右。
2.公司全自主可控研发的国产光刻机，已经能用于功率
半导体和mems等特定半导体领域，据专业人士说，改造后也能适用于其他低端
芯片，国产光刻机即将见到曙光。
明星基金经理刘松格一季度买成第三大股东。而且2月26日龙虎榜三个机构大买，一个买了1.25亿，一个买了9988万，一个买了3700万，如今5月即将投产，事件驱动。
苏大维格是一家专注于微纳光刻技术的公司，以微纳光刻技术平台为核心拓展下游的布局，创始人是技术出身，公司技术实力非常强，属于创新驱动型企业。苏大维格是行业内龙头，多次牵头国家重大光刻技术和光刻机突破等，但因为这是个冷门行业，所以没有多少人了解这个公司。
疫情下大屏触控迎来大增量：过去，大屏触控的需求其实并不大，市场上做这个技术的公司也少。但是疫情期间，Zoom 日活用户从去年12月份的1000万人激增到3亿人，增长整整30倍，钉钉增长的用户还更多。因此在远程教育、在线办公等需求大幅爆发的背景下，大屏触控的需求也一下子爆发了，而哪怕疫情过去了，大屏触控也将会成为标配。
这是导致大屏触控直接从1到100甚至1000的事件驱动。
而苏大维格是行业龙头，他的电容触控技术是革新性的，技术成本和业内旧技术价格差不多，但是技术更先进，触控更灵敏。
原因是苏大维格本身有业务就是做镭射激光在膜上多雕刻的，触控膜的核心实际就是在PET上面用激光做足够细的凹槽，然后在凹槽里面灌注纳米银离子，形成导线，这样在按压的时候会形成电容变化 达到更高的触控精度，因为过去本身大型触控的需求是不高的 所以这块没有啥企业重视，因此苏大维格也算是冷风遇见风口了。
公告：南通开发区与苏大维格科技集团及苏州维业达触控科技签约，宣布维业达高性能柔性触控屏模组及研发中心项目落户开发区。（大屏触控项目）据介绍，该项目规划总投资50亿元，一期投资达18亿元，主要从事高性能柔性触控屏模组产品的研发、生产和销售，并拟与大院大所合作设立研发中心。预计一期项目达产后，年产值约47亿元，将推动我市新一代
信息技术产业进一步发展。
一期5月即将投产。
那订单、良率、产能有问题吗？
公司已经和
ZOOM 达成大屏触控合作、拿到华为等企业供应商资格，技术也属于革新性的，因此我觉得订单是没问题的。
而良率和产能方面，技术并不属于刚研发出来的新技术，我咨询过公司证代，回答说良率和产能不是问题。
国产光刻机即将迎来曙光：
有投资者在互动平台咨询：自主研发方面，公司光刻机从设计、组装以及所用软件的开发，均由本公司自主完成，主要用于柔性电子、MEMS以及半导体上游器件等产品的研发与制造？属实？
苏大维格：您好，感谢您对本公司的关注。公司通过自主研发制造高端微纳装备光刻机，自制微纳结构模具，进行微纳结构产品生产，光刻机设计、组装以及所用软件的开发，均由本公司自主完成。公司的微纳光刻直写设备主要用于柔性电子、MEMS以及特定领域半导体等产品的研发与制造，具有非接触、自动对准套刻、支持翘曲衬底图形光刻的先进功能，尤其为今后超颖材料、裸眼3D显示、光子晶体、半导体功率芯片、MEMS等研发和制备等方面，提供了前沿性和实用性纳米光刻工具。感谢您的关注！
但是后续公司在互动易上又否认能应用于芯片领域，只能用于特定半导体领域。原因是公司目前的光刻机精度还达不到荷兰光刻机公司asml那种高精度水平，而能应用于mems芯片和半导体功率芯片的原因：是因为这两个领域都是微米和大纳米级别的，而不像手机芯片这些，都是5-30纳米级别左右的，精度方面还需要追赶。
目前国产精度最高的光刻机，是90nm左右的光刻机，而且还不一定能用于实际生产，苏大维格已经是业内领先了，多次牵头国家光刻机技术。
国产光刻机已经见到曙光了，从零突破到1已经达到，接下来是从1到10的突破。
插上一条新闻：苏大维格牵头光刻机关键技术国家重大仪器专项通过验收网页链接7月23日，苏大维格科技集团股份有限公司(以下简称“苏大维格”)发布公告，公司于近日收到由国家科学技术部下发的验收文件国科资函[
2019]14号，公司牵头的国家重大科学仪器设备开发专项“纳米图形化直写与成像检测仪器的研发与应用”项目通过综合验收。项目研发的纳米图形化直写与成像检测仪器，解决了微纳结构光场的可调控技术、图形的高速率写入机制、微纳结构与纳米精度多轴光机系统的设计与可靠性等难题;实现了从纳米光子晶体结构到微米级任意结构的高效率光刻。项目的验收通过，在研发创新与技术进步、推动国产科学仪器进口替代、支撑重大需求与重点工程等方面取得了较好的成就。项目由苏大维格联合上海理工大学、中国科学院上海光学精密机械研究所、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、南开大学等6家单位共同完成。该项目总体目标包括攻克纳米干涉细分、纳秒时序下空间调制同步与纳米精度控制、3D导航Z-校正和
海量数据处理的关键技术，开发紫外空间光调制、共焦成像检测关键部件和大数据量图形软件，研制出具有自主知识产权的纳米图形化直写与成像检测仪器等。项目主要解决了微纳结构光场的可调控技术、图形的高速率写入机制、微纳结构与纳米精度多轴光机系统的设计与可靠性等难题;面向无掩模光刻，研制了紫外激光直写光刻的关键技术、软件和装备;实现了从纳米光子晶体结构到微米级任意结构的高效率光刻，与目前其他激光直写技术相比，速度更快、效率更高。
玫瑰吵吵
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