自主研发制造高端微纳装备‘光刻机

自主研发制造高端微纳装备‘光刻机‘

苏大维格 互动平台表示，公司自主研发制造高端微纳装备-光刻机，从设计、组装以及所用软件的开发，均由公司自主完成，自主制造光刻机是公司核心技术及核心竞争力的集中体现。公司光刻设备主要用于微纳材料包括柔性电子、MEMS以及某些特定领域半导体器件的研发与制造，公司的微纳光刻直写设备具有非接触、自动对准套刻、支持翘曲衬底图形光刻的先进功能，可为今后超颖材料、裸眼3D显示、光子晶体、半导体功率芯片、MEMS等研发和制备等方面，提供了前沿性和实用性纳米光刻工具。
公司长期致力于微纳先进技术的研发与产品制造，在裸眼3d、增强现实等方面做了大量前瞻性研究工作，并获得部分相关专利授权。2018年，公司成功攻克“纳米波导光场镜片”批量化关键技术，进一步完善了公司专利池，保证了公司在相应领域的技术领先。公司科研项目“面向柔性光电子的微纳制造关键技术与应用”获得了2018年度省科学技术奖一等奖。