很多朋友其实在纠结所谓的中国版的光刻工厂到底是新消息还是老消息,中国的光刻机到底是真突破还是假突破?其实我觉得这里面应该用一个新的思路去看问题,首先光刻机现在是正在攻坚阶段,到底做没做出来,起码官方的角度是没有好,那么咱们就顺着官方的思路走,现在光刻机有很重大的技术突破,但是euv光刻机还没有完全的的大规模量产,那顺着这个思路往下看的话,那既然没有大规模量产,股市炒作的就是预期炒作的是什么呢?
炒作的是我们要解决光源的问题,这才是真正市场,星期五开始炒作高频同步辐射光源也就是第四代光源的核心,因为只有光源的问题解决了那么后面的光刻机euv对应的相关的技术理论原理论文包括对应的精密零部件,咱们基本上都能解决,现在核心就是光源。
所以市场炒作的其实是高频同步,第4代光源的技术突破,在这个技术上进行努力,这个技术突破了那么Euv,光刻机就顺理成章了,所以现在的核心很多人觉得光刻机是假的啊,光刻工厂是老消息,其实这些东西不是重点,真正的重点是炒作第4代,高频同步辐射光源的技术突破确实是今年2月份就在雄安建了,但是当时只是建厂设备没有开始运行,现在通过
中广核技的技术开始实质性的进行电子,加速了进行粒子加速了,OK,那这个时候即将随时要进入随时突破阶段了,这不就是市场炒的预期吗?因为一旦高频同步辐射光源,第4代光源解决了,那么对应的E UV光刻机,不就是水到渠成了吗?这才是真正市场炒作,高频同步光源的核心。周五中午发酵了SSMB-EUV技术,SSMB-EUV技术为光刻机领域带来了一种全新的思路。
因为目前中国要想掌握光刻机的所有技术,存在一个绕不过去的专利,那就是光源小型化,小型化后的光源才能塞进光刻机里进行蚀刻等操作。
但是,既然我们不能实现小型化,那为什么不干脆做一个大光源呢?
SSMB-EUV正是采用了“巨大化”的环形加速器作为光源,为多台光刻机提供工作光源。这意味着我们虽然造不出来小型的光刻机,但是却可以使用SSBM-EUV技术,直接驱动很多台光刻机,建立超大规模的“光刻工厂”所以现在也许光刻机并没有实质性的量产,也许还没有大面积的发酵,但是我们要解决卡脖子的光源问题,这才是核心。所以在解决光源问题和是不是真的有光刻机量产,其实这两件事没冲突,因为我发现很多的朋友还在纠结,光刻机e UV到底是不是真正量产了我觉得这个并不冲突。