| KrF(248nm)ArF(193nm)对应制程 | 130nm以上成熟制程(28nm的上一代主力,功率/模拟/存储成熟部分) | 90nm-7nm先进制程(逻辑先进节点+先进存储),浸没式193i可做到7nm |
| 技术壁垒 | 树脂(PHS)+光致产酸剂,国内已突破 | 脂环族树脂、合成工艺复杂、金属离子纯度要求ppb级,国内刚撕开口子 |
| 国产化率 | 约20-30%(彤程/上海新阳/晶瑞已量产供货) | <5%(基本只有南大光电批量供货) |
| 单价 | 相对便宜 | 贵(比KrF贵一个数量级,EUV更贵) |
| 国内地位 | 替代进行时 | 卡脖子最狠的环节之一 |