昊华科技之前主要是跟pcb,今天涨停应该是因为六氟丁二烯(C₄F₆),高深宽比介质刻蚀的核心特种气体。这种气体有四大应用场景:
先进逻辑芯片:14nm及以下节点(7nm、5nm、3nm FinFET)
3D NAND闪存:200+层高堆叠存储器的微米级深孔刻蚀
HBM高带宽显存:AI芯片配套的核心刻蚀材料
高端
DRAM :电容器、深沟槽高精度刻蚀
28nm以上成熟工艺可用CF₄、C₄F₈替代,14nm及以下先进节点必须用六氟丁二烯(纳米级高深宽比结构的刻蚀精度要求)。
全球仅3家企业规模量产5N高纯六氟丁二烯:昊华科技、关东电化(日)、林德(德)。