艾森股份 调研纪要:
先进封装光刻胶电镀液龙头
后道光刻胶三大特征:国产化率低、先进封装强驱动、高壁垒。
(1)低国产化率:市场目前关注前道光刻胶的国产替代,但实际上后道封装光刻胶国产化率同样低,主要由日美企业占据,艾森为国内先发布局玩家,在先进封装和存储领域率先布局。先进封装负性光刻胶在盛合测试认证,是目前国内唯一可量产供应商。
(2)先进封装高增速:2.5D/3D、HBM等工艺需求都会快速拉动用胶需求,因此光刻胶及配套试剂的市场规模有望从当前10亿增长到40-60亿。
(3)市场认为后道光刻胶及配套试剂的壁垒较前道低,实际上,后道和前道的技术维度不一样。前道胶的难点在于极限微细图形和曝光体系;后道胶的难点在于厚膜成形、封装工艺兼容和可靠性验证。
(4)客户:长鑫、长存均为公司客户,目前有几款光刻胶产品是HBM工艺的baseline 。
(5)空间:华东制造基地投产后,公司整体光刻胶电镀液产值有望从目前12亿元(2026年预计收入8亿)提升到25-30亿,业绩有望达5-7亿,中期目标200亿。