比黄金稀缺10倍！EUV光刻胶国产化率将从5%飙至30%，反制日本最好手段（附股）

清风大道
核心企业竞争力对比
国产替代已不是“能不能”的问题，而是“快与慢”的问题。光刻胶，作为技术壁垒最高、替代需求最迫切的半导体材料，是反制策略中的“正确答案”。

一、炒作逻辑纠偏：
水产、化妆品等行业因市场规模有限，或受进口下滑影响，整体战略反制价值较低；

半导体材料在对日进口中占比接近一半，而光刻胶是其中技术壁垒最高、国产替代最紧迫的关键材料，具备真正的战略价值。

二、替代节奏明确：
2025–2027年：KrF 与 ArF 光刻胶实现规模化替代，国产化率有望突破30%；
2030年后：EUV光刻胶有望进入试量产阶段，逐步打破日本在该领域的技术垄断。

总结：光刻胶不仅是国产替代的核心突破口，更是反制策略中最具现实可行性和战略意义的环节。