易成新能，半导体国产替代：高纯碳化硅粉体团体标准落地， 中宜创芯迎国产替代风口

易成新能 战略重组并入了中宜芯创。

由中国电子材料行业协会发布的《晶体生长用高纯碳化硅粉体》团体标准将于11月1日正式实施。该标准由中宜创芯联合国内20余家科研院所及产业链企业共同制定，是我国第三代半导体材料领域首个针对纯度6N（99.9999%）级以上碳化硅粉体的技术规范，对推动半导体产业自主可控具有里程碑意义。
“该标准将产生三重积极影响，一是通过建立统一技术规范提升行业整体技术水平，二是降低下游企业验证成本推动国产替代加速，三是强化龙头企业技术壁垒优化产业竞争格局。”10月21日，中宜创芯技术 总监杨正宏说。
据了解，这项填补国内空白的技术规范通过统一纯度、杂质限值、粒度等关键指标，显著提升国产粉体质量与一致性。标准实施将有效降低下游晶体生长环节的技术风险与验证成本，加速国产高纯碳化硅粉体的应用替代进程，为我国第三代半导体产业链的自主可控与高质量发展提供重要支撑。
团标评审专家组认为，随着新能源汽车、光伏逆变器等领域对碳化硅器件需求的爆发式增长，掌握核心粉体技术的企业将迎来重大发展机遇。
作为标准主要起草单位，中宜创芯在碳化硅粉体制备领域有着重大技术突破。该公司采用改进自蔓延高温合成法（SHS），成功将碳化硅粉体纯度提升至8N8级（99.9999998%），相当于1吨材料中杂质不超过0.2克，远超标准要求的6N级。其粉体产品具有颗粒度大、纯度高、阿尔法含量高和游离碳低等优点，尤其适合8英寸甚至12英寸碳化硅厚单晶晶锭的生长。
“团体标准实施后，下游企业无疑将更倾向于采用符合统一指标的国产粉体。我们的高纯度产品已在国内30多家企业和研究机构开展验证，市场份额有望快速提升。”杨正宏说。
除了具备高标准的粉体制备能力，中宜创芯的优势还反映在其对全产业链的深度整合与优化。通过与中国平煤神马集团下属单位的合作，该公司实现了从基础原料到高端产品的全链条贯通，大幅降低了生产成本，同时确保了供应链的稳定性。
此外，中宜创芯持续加大研发投入，已经启动‌开发光学级碳化硅，重点应用在碳化硅热沉材料等相关产品，以实现与AI芯片功率密度相匹配的散热性能。这一前瞻性布局将进一步巩固该公司在国际竞争中的主动权，并逐步缩小与全球顶尖企业的技术差距，助力中国第三代半导体材料实现全面突破。 $易成新能(sz300080)$