新热点：光刻胶

近日新消息:北京大学彭海琳教授团队近期指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案，该成果已引起广泛关注。很可能催生新热点！！！目前板块涨幅前列！

核心突破内容如下：

- 技术手段：团队首次将冷冻电子断层扫描技术（cryo-ET）引入半导体制造领域，实现了对光刻胶分子在液相环境中微观三维结构、界面分布与缠结行为的原位、高分辨率观测。

- 科学意义：此前光刻胶在显影液中的微观行为是“黑匣子”，工业界只能依赖反复试错优化工艺，严重制约了7纳米及以下先进制程的良率提升。此次研究首次“定格”了光刻胶的微观运动，为精准控制显影过程提供了理论依据。

- 产业影响：基于该研究成果，团队指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案，有望突破先进制程中的良率瓶颈，推动国产芯片制造向更高精度、更高良率迈进。

- 成果发表：相关研究论文已发表于《自然·通讯》（Nature Communications），标志着该成果获得国际学术认可。

综上，彭海琳团队的工作不仅在科学上填补了光刻胶微观行为研究的空白，也为我国半导体产业在高端制程中的良率提升与工艺优化提供了关键支撑。

国产替代的光刻胶急需加速摆脱卡脖子!
不久前中国刚刚建立了一条最大规模光刻胶生产线,主力军之一是彤程新材（ 603650 ）

还有八亿时空 ！！！

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