国产
光刻机行业分析
| 国产光刻机行业分析报告
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| 一、行业概况国产光刻机行业发展现状国产光刻机行业正处于快速发展阶段，尤其是在中芯国际 （SMIC）测试国产深紫外（DUV）光刻机的消息传出后，行业关注度显著上升。2025年9月17日，中芯国际 AH股同步刷新历史纪录，带动了光刻机及相关产业链企业的股价大幅上涨。
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| 国产光刻机行业正处于快速发展阶段，尤其是在中芯国际（SMIC）测试国产深紫外（DUV）光刻机的消息传出后，行业关注度显著上升。2025年9月17日，中芯国际AH股同步刷新历史纪录，带动了光刻机及相关产业链企业的股价大幅上涨。 |
| 与此同时，国内企业在光刻机相关技术领域取得实质性突破。例如，首台国产商业电子束光刻机“羲之”于2025年8月15日正式进入应用测试阶段，标志着我国在高端光刻技术上开始具备自主生产能力。
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| 主要参与企业及业务布局国内主要参与光刻机研发和生产的企业包括： |
| ● 上海微电子（SMEE）：承担国家“02专项”任务，已具备90nm、110nm、280nm等工艺能力，覆盖封装及前道制造领域。 |
| ● 芯碁微装 （301369.SZ）：专注微纳直写光刻技术，其PCB直接成像设备及自动线系统在行业内处于领先地位。 |
| ● 华卓精科（科创板申报企业）：专注于光刻机双工件台、超精密测控装备整机及关键部件的研发、生产及销售。 |
| ● 富创精密（688409.SH）：作为国内领先的光刻机结构零部件供应商，能够满足7纳米及以下先进制程需求。
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| 此外，多家企业专注于光刻机的关键零部件制造和光学系统研发，如茂莱光学（688502.SH）、炬光科技 （688167.SH）、福晶科技 （002222.SZ）等。 |
| 行业发展阶段分析国产光刻机行业正处于从研发走向商业化应用的过渡阶段。尽管目前高端EUV光刻机仍由ASML垄断，但中端DUV光刻机已取得实质性进展，如宇量昇提供的DUV设备已进入中芯国际的测试流程。同时，国内企业在光刻机光学系统、光源系统、结构零部件等环节的国产替代正在加速推进。
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| 二、技术水平分析国产光刻机技术发展水平目前，国产光刻机技术已覆盖多个制程节点，包括90nm、110nm和280nm，主要集中在封装及后道制造领域。而前道光刻机则集中在DUV和i-line光刻技术上，如芯碁微装的直写光刻设备、富创精密的结构零部件。 |
| 2025年8月15日，全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”正式进入应用测试，其分辨率达到0.6纳米，线宽可达8纳米，技术水平接近国际先进设备。 |
| 与国际先进技术的差距虽然国产光刻机在中端市场有所突破，但与国际先进水平仍存在一定差距，尤其是在EUV光刻机方面。目前全球EUV光刻机市场几乎被ASML垄断，国内企业尚未掌握相关技术。 |
| 此外，光刻机的核心部件如光学镜头、光源、工件台等仍依赖进口。例如，ASML的双工件台和EUV光学系统是其技术优势之一，而国内企业仍在追赶。 |
| 技术突破和创新情况近年来，国内企业在光刻机核心技术上取得了多项突破。例如： |
| ● 茂莱光学（688502.SH）：具备光刻机曝光物镜超精密光学元件加工技术，2024年半导体业务收入占比达46.3%。 |
| ● 炬光科技（688167.SH）：研发的光场匀化器用于光刻机中，2024年营收达6.20亿元。 |
| ● 富创精密（688409.SH）：覆盖7纳米及以下先进制程的结构零部件，2024年营收达28.49亿元。 |
| ● 芯碁微装（301369.SZ）：专注于微纳直写光刻技术，已实现PCB直接成像设备及自动线系统的国产化。
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| 三、市场竞争格局国内主要光刻机企业对比国内主要光刻机企业包括上海微电子（SMEE）、芯碁微装（301369.SZ）、华卓精科（科创板申报企业）和富创精密（688409.SH）。 |
| ● 上海微电子：承担国家“02专项”任务，是国内唯一一家具备前道光刻机研发能力的企业。 |
| ● 芯碁微装：在直写光刻设备领域具备领先优势，其产品已在国际知名客户中实现销售。 |
| ● 华卓精科：专注于光刻机双工件台和超精密测控技术，2024年主营业务收入主要来自超精密测控装备部件，占比69.96%。 |
| ● 富创精密：是国内领先的光刻机结构零部件供应商，2024年营收达28.49亿元，同比增长显著。
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| 市场份额分析目前，国内高端光刻机市场份额仍由ASML、Canon和Nikon占据主导地位。但在中端光刻机领域，国产化替代正在加速。例如，芯碁微装的直写光刻设备已实现国产化替代，其客户覆盖全球多个半导体制造厂商。 |
| 此外，富创精密、炬光科技、茂莱光学等企业在光刻机关键零部件领域逐步扩大市场份额，推动了国产替代进程。 |
| 竞争优势和劣势竞争优势： |
| ● 国内企业在光学元件、结构零部件等关键环节逐步实现技术突破和国产化替代。 |
| ● 政策支持力度大，如国家“02专项”和地方政策（如上海支持基础研究和税收优惠）为国产光刻机技术发展提供了有利条件。
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| 竞争劣势： |
| ● 在EUV光刻机领域，国内企业尚未掌握核心技术，仍需依赖进口。 |
| ● 光刻机作为半导体制造核心设备，技术壁垒高，研发周期长，短期内难以形成规模化生产。
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| 四、财务表现分析主要企业营收和盈利情况以下是部分主要企业的财务数据（2024年）： |
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| 可以看出，茂莱光学、南大光电 、芯碁微装等企业在营收和盈利能力上表现较好，且研发投入较高，显示出较强的竞争力。 |
| 研发投入水平国产光刻机产业链企业普遍重视研发投入。例如： |
| ● 南大光电（300346.SZ）2024年研发费用达213.05亿元，占营收的9.05%。 |
| ● 茂莱光学（688502.SH）2024年研发费用为70.2783亿元，占营收的13.97%。 |
| ● 炬光科技（688167.SH）2024年研发费用为95.0786亿元，占营收的15.33%。
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| 估值水平分析以下是部分企业的估值数据（截至2025年9月17日）： |
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| 值得注意的是，尽管部分企业估值偏高，但也反映出市场对其技术突破和未来增长潜力的乐观预期。 |
| 五、政策环境分析国家政策支持情况国产光刻机的发展得到了国家层面的高度重视和支持。2024年发布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录》将光刻机列为关键装备，并提供政策支持。此外，国家“02专项”持续推动光刻机技术的研发与产业化。 |
| 产业政策影响2025年7月，ASML二季度业绩超预期，显示出全球光刻机市场需求旺盛。与此同时，国内政策的密集出台推动了国产光刻机技术的突破和市场的扩大。 |
| 发展机遇分析在AI技术的推动下，全球半导体制造行业预计将在2024年底到2028年间以7%的复合年增长率增长，达到每月1110万片晶圆。其中，先进工艺产能预计从每月85万片增长至140万片，复合年增长率达14%。 |
| 此外，2025年中国算力大会透露，智能算力规模预计增长超40%，为半导体设备提供了新的应用场景和市场需求。 |
| 六、发展前景与挑战行业发展趋势国产光刻机行业正朝着高精度、高可靠性、低成本的方向发展。随着国内企业在光学系统、结构零部件、光源等关键环节的技术突破，国产替代速度将进一步加快。 |
| 面临的主要挑战● 光刻机整机及关键零部件的研发门槛高，需要长期投入和积累。 |
| ● 国际巨头如ASML在EUV光刻机领域仍有垄断优势，国内企业短期内难以突破。 |
| ● 由于光刻机是晶圆制造中最昂贵的设备之一，其购置成本约占设备总投资的21%～23%，因此国产光刻机的性价比优势需进一步提高。
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| 发展机遇和风险国产光刻机面临的主要机遇包括： |
| ● AI驱动下的先进制程需求增加，光刻机市场规模持续增长。 |
| ● 国家政策支持和技术突破，推动国产化替代进程。
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| 但同时也伴随着一定的风险，如： |
| ● 国内光刻机企业在高端市场缺乏经验，需经历较长的认证周期。 |
| ● 国际技术封锁和出口限制可能导致部分核心零部件仍需依赖进口。
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| 七、投资建议行业投资价值评估国产光刻机行业的投资价值较高，尤其是在技术突破和国产替代的大背景下，相关企业有望受益于市场需求的增长和 政策支持的加码。例如，茂莱光学、炬光科技、富创精密、芯碁微装等企业均在光刻机产业链中具备技术优势和市场潜力。 |
| 重点关注企业1. 茂莱光学（688502.SH）：在光刻机曝光物镜用光学器件方面具备领先优势，2024年半导体业务收入占比达46.3%。 |
| 2. 炬光科技（688167.SH）：专注于光场匀化器和光学元件，其高功率激光器广泛应用于光刻机系统。 |
| 3. 富创精密（688409.SH）：作为国内领先的光刻机结构零部件供应商，2024年营收达28.49亿元。 |
| 4. 芯碁微装（301369.SZ）：微纳直写光刻设备供应商，其产品已实现国产化替代，2024年营收达9.54亿元。 |
| 5. 南大光电（300346.SZ）：光刻机光学系统供应商，2024年营收达23.52亿元。，,,,,,
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| 投资风险提示尽管国产光刻机行业具备较高的投资价值，但仍需注意以下风险： |
| ● 光刻机整机及核心零部件国产化仍需时间验证，短期内难以取代进口设备。 |
| ● 国际技术壁垒较高，国内企业在高端光刻机领域仍有待突破。 |
| ● 光刻机市场受全球半导体行业波动影响较大，需关注市场需求变化。
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| 其他整理国产光刻机核心个股梳理：
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| 1. 整机
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| (1) 上海微电子
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| 上海电气 控股集团实控，集团同时控制5家上市公司，分别是上海电气 ，上海机电 ，电气风电 ，海立股份 ，赢合科技 （后面仨最近涨幅可以说逆天了，知道有关联就行，就不展开讲了）
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| 张江高科 ：间接持有上海微电子10.779%的股份
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| 东方明珠 ：间接持有上海微电子1.73%的股份
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| 飞乐音响 ：公司董事长为上海微电子的监事
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| (2) 新凯来
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| 深圳国资委实控
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| 奥普光电 ：实控人中国科学院长春光机所与新凯来合资成立长光集智
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| 深纺织 A ：新凯来隶属于深圳重大产业投资集团，公司与新凯来同一实控人
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| (3) 长春光机所
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| 中国科学院实控
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| 奥普光电：长春光机所的唯一上市平台
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| 2. 零部件
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| (1) 光源
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| 波长光电 ：光刻机平行光源系统配套国产光刻机
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| 永新光学 ：光刻机镜头可用于PCB光刻设备
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| 福晶科技：BBO晶体全球第一，为激光器上游材料
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| 茂莱光学：精密光学器件已供货上海微电子
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| (2) 物镜
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| 阿石创 ：实现EUV光刻机镜头所需的超高纯钼靶和硅靶技术，解决反射镜镀膜的“卡脖子”问题
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| 洪田股份 ：参股四川至臻精密光学8.49%股份，四川至臻精密光学自主研发IBF系列离子束抛光机，自主研发的高精度离轴椭球镜已成功应用于14nm 制程半导体设备
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| 赛微电子 ：光刻机厂商的MEMS透镜部件供应商
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| (3) 光学器件
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| 苏大维格 ：向上海微电子提供光刻机用的定位光栅产品
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| 炬光科技：提供光刻机曝光系统里面核心元器件光场匀化器
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| 腾景科技 ：多波段合分束器已进入微电子供应链
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| 京华激光 ：控股美国公司在光刻机微结构光学方面实力较强
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| 晶方科技 ：子公司向ASML供货光路零部件
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| (4) 结构件
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| 富创精密：半导体零部件营收规模A股第一，为12.9亿
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| 新莱应材 ：半导体零部件营收规模A股第二，为7.1亿，为新凯来提供RTP（快速热处理）和DPN（扩散预清洗）设备的关键零部件
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| 联合精密 ：投资光刻机零部件铸件（但后续无实质性进展）
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| 华亚智能 ：光刻机设备精密金属结构件
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| 百傲化学 ：参股企业芯慧联芯（苏州）科技有限公司自研的首台D2W混合键合设备和W2W混合键合设备已出厂向客户交付，客户为国内头部芯片制造企业
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| 旭光电子 ：公司用于光刻机、等离子清洗/抛光等半导体设备领域的发射管产品已经客户验证通过，并实现批量销售
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| 富创精密：公司为新凯来提供关键零部件
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| 路维光电 ：供货新凯来掩膜版产品
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| 强瑞技术 ：已向新凯来供应超精密结构件产品
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| 利和兴 : 供货新凯来精密结构件和测试平台等产品
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| (5) 控制器
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| 电科数字 ：子公司供货光刻机控制器
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| (6) 温控
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| 同飞股份 ：液体恒温设备应用于光刻机
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| 海立股份：光刻机冷却系统配套
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| (7) 洁净设备
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| 蓝英装备 ：清洗系统以及表面处理设备
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| 美埃科技 ：提供最高洁净等级标准的设备，国外企业供应商白名单
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| 安达智能 ：公司Asher/除胶（单腔体）项目实现自动取料送料、光刻胶自动去除
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| 至纯科技 ：公司为新凯来湿法清洗设备核心供应商
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| 3. 气体
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| 凯美特气 ：公司电子特气项目生产芯片所需的超高纯气体和光刻气产品具有较高的品质，并与多家头部企业建立合作
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| 新莱应材：公司真空产品的AdvanTorr品牌以及气体产品的NanoPure品牌均可以应用到光刻机的设备中
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| 华特气体 ：公司是国内唯一一家自主研发Ar/F/Ne、Kr/Ne、Ar/Ne和Kr/F/Ne 4款光刻混合气，并打破了国际垄断
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| 4. 多重曝光技术
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| 至纯科技：公司与新凯来联合申请SAQP技术专利，提供湿法清洗设备支持SAQP工艺中的光刻胶清洗环节，适配7nm/5nm先进制程芯片生产
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| 冠石科技 ：SAQP技术需四重曝光，对掩膜版需求增加；公司预计2025年实现45nm掩膜版量产，2028年突破28nm制程
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| 精测电子 ：SAQP技术对薄膜沉积与刻蚀工艺精度要求极高，公司N+2制程设备采购成本达160亿元/万片产能
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| 国林科技 ：SAQP工艺涉及大量光刻胶清洗，公司半导体级清洗设备适配光刻胶残留去除需求，技术覆盖28nm以下制程
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| 菲利华 ：光掩膜版核心材料供应商，石英玻璃基板纯度达半导体级，已通过中芯国际验证
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| 强力新材 ：供应SAQP工艺所需光刻胶材料（如PSPI）
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| 5. 光刻胶
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| 彤程新材 ：ArF技术水平排名第一，半导体光刻胶营收2亿元，国产ArF量产领先供应商
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| 南大光电：ArF技术水平排名第二，控股子公司宁波南大光电主营ArF光刻胶相关产品，营收3600万
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| 上海新阳 ：ArF技术水平排名第三，光刻胶产品营收400余万，ArF企业测试验证中
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| 晶瑞电材 ：半导体光刻胶收入规模较小，量产KrF光刻胶，ArF光刻胶已向客户送样
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| 容大感光 ：半导体光刻胶收入规模较小，g/i线光刻胶量产，ArF研发中
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| 华懋科技 ：9款光刻胶正在客户端进行产品验证
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| 普利特 ：间接参股苏州理硕科 技，其涉及光刻胶研发
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| 鼎龙股份 ：浸没式ArF晶圆光刻胶及某款KrF晶圆光刻胶产品顺利通过客户验证
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| 华软科技 ：公司光刻胶基材小批量订单
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| 6. 其他
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| 东方嘉盛 ：建设光刻机寄售维修保税仓库
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| 苏大维格：在光刻领域，公司现阶段主要拓展直写光刻、纳米压印光刻和投影扫描光刻技术和产品在光电子、光通信和泛半导体等领域的应用，并积极研发高制程掩膜的相关光刻技术
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