光刻机领域具有唯一性的十大黑马，吊打寒武纪、秒杀新易胜

所有人注意了。光刻机正迎来政策+技术+需求的三重共振。其中很有可能会诞生下一个寒武纪 。不开玩笑。首先是政策层面：近期，国家集成电路产业投资基金三期宣布调整战略方向，将重点支持光刻机与芯片设计软件等关键领域的技术突破。其次是技术层面：上海光机所LPP-EUV光源能量转换效率达3.42%，接近商用水平的一半；哈尔滨工业大学DPP-EUV原型机计划三季度试产；上海微电子成功实现DUV光刻机国产化，28nm光刻机也已进入量产验证阶段等。最后是需求层面：随着人工智能、5G通信、人形机器人 等新兴领域的快速发展，市场对高性能芯片的需求呈现爆发式增长，从而刺激了各大厂家对高性能光刻机的需求，此外根据市场统计，2025年全球光刻机市场规模预计突破315亿美元，而中国本土企业份额有望从15%向30%冲刺。因此这十家在光刻机领域具有唯一性的黑马，值得大家重点关注。第一家，张江高科 ：唯一性：通过子公司持有上海微电子10.78%股权，后者是国内唯一具备高端光刻机整机量产能力的企业，28nm浸没式光刻机已进入中芯国际 等头部厂商产线验证，90nm设备实现规模化应用。第二家，芯碁微装 ：唯一性：国内唯一实现IC制造直写光刻设备量产的企业，产品覆盖PCB、半导体及显示面板领域，30nm线宽直写光刻技术打破国外垄断。第三家，路维光电 ：唯一性：国内唯一实现28nm半导体掩膜版量产的企业，显示掩膜版覆盖G2.5-G11全世代，半导体掩膜版套刻精度≤3nm。第四家，茂莱光学 ：唯一性：国内唯一能量产DUV光刻机投影物镜的企业，面形精度达λ/50（λ=632nm），填补蔡司在该领域的国产空白。第五家，波长光电 ：唯一性：国内唯一可为光刻机提供全套光学检测解决方案的企业，平行光源系统支撑65nm以下制程，光束匀化精度达99.8%。第六家，南大光电 ：唯一性：国内唯一实现ArF光刻胶量产的企业，产品通过中芯国际 14nm产线验证，分辨率达0.13μm，良率95%以上。第七家，凯美特气 ：唯一性：国内唯一通过ASML认证的光刻气供应商，激光混配气纯度达99.9999%，打破Air Liquide垄断。第八家，上海新阳 ：唯一性：国内唯一实现90-14nm各技术节点电子电镀与清洗液全覆盖的企业，光刻胶配套试剂市占率超30%。第九家，芯源微 ：唯一性：国内唯一可提供前道量产型涂胶显影设备的厂商，设备已与上海微电子光刻机联机量产，覆盖90nm-28nm制程。第十家，蓝英装备 ：唯一性：全球唯一为ASML提供EUV光刻机光学部件清洗设备的企业，国产化率超80%，清洗精度达纳 米级