【电子束
光刻机】打破海外技术垄断,有望用于EUV光罩和量子芯片领域
[玫瑰]依托浙大省重点实验室,研究院自主研发的新一代100kV电子束光刻机“羲之”已正式走向市场,其精度比肩国际主流设备,标志着量子芯片研发从此有了“中国刻刀”。这台设备专攻量子芯片、新型半导体研发的核心环节,它通过高能电子束在硅基上“手写”电路,精度达到0.6nm,线宽8nm,可灵活修改设计无须掩膜版。
[玫瑰]电子束光刻技术起源于扫描电子显微镜,其核心部件包括电子枪、电子透镜、电子偏转器、激光干涉仪、光阑组件等。此前日本、英国应用电子束光刻已能实现5nm以下精细结构分辨率处理,并且可支持200-300mm晶圆,未来有望在量子计算、硅光子学领域进一步拓展应用。
[玫瑰]电子束光刻技术在光罩(光掩模)制造中扮演着核心和关键的角色,尤其是在
先进半导体节点(如10nm、7nm、5nm、3nm及以下)的光罩生产中。它是目前制造高精度、高复杂度光罩的主流技术。
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