光刻胶板块热点速评

光刻胶板块热点速评

根据武汉东湖新技术开发区政务网，近日武汉太紫微光电推出的T150A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面，其中太紫微公司成立于2024年5月，由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。

通过产业链信息了解，T150A光刻胶对标产品为美国杜邦的KrF光刻胶UV1610，其在逻辑领域适用性较强，在光刻工艺中极限分辨率达120nm。根据日经亚洲，2022年全球半导体光刻胶市场规模达27.1亿美元，杜邦在光刻胶领域市场份额约13%。

目前国内光刻胶领域国产化率仍较低，尤其是KrF、ArF光刻胶领域国产替代空间较大，根据CEMIA统计，2022年中国集成电路晶圆制造用光刻胶市场规模为33.58亿元，其中KrF与ArF光刻胶合计占比超过66%，目前国内光刻胶量产主要集中在i线/g线，我们看好高端KrF及ArF光刻胶领域国产替代有望持续加速。

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