光刻机概念产业梳理（重点名单）

9月13日，我国工信部信息表示国产光刻机已取得重大突破，分别是国产氟化氪光刻机（110nm）以及氟化氩光刻机（65nm）。

国际上，依据三大技术指标衡量光刻机性能：光学分辨率、套刻精度以及产能。

此次国产氟化氩光刻机套刻≤8nm，在7纳米及以上制程节点的芯片制造，实现进一步自主可控。

以下是光刻机概念股梳理

张江高科 ：持股上海微电子10.779%的股份。

蓝英装备 ：公司精密清洗设备客户为负责制造光刻机的核心光学系统。

富乐 德：公司已研发并量产半导体14nm制程洗净工艺、储备的半导体7nm部品清洗工艺已较为成熟。

海立股份 ：为上海微电子相关设备供货冷却配套系统。

波长光电 ：公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力。光刻机平行光源系统已交付多套系统用于接近式掩膜芯片光刻工序。

华亚智能 ：公司已向客户少量供应应用于光刻机设备的精密金属结构件产品。

凯美特气 ：控股子公司光刻气产品获得ASML子公司Cymer公司合格供应商认证。

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