逆势中发展，南大光电的起始

风险提示：本文仅为个人记录，不构成任何投资建议。

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我们继续分析下南大光电的基本面：



南大光电是一家专业从事高纯电子材料研发、生产和销售的高新技术企业，于2012年8月7日在深圳证券交易所创业板挂牌上市（股票代码300346）。公司总部位于江苏省苏州市工业园区，在浙江宁波、安徽全椒、山东淄博、乌兰察布等地设立了研发生产基地，并在北美设立了营销技术服务分公司。

一、公司发展历程

南大光电诞生于国家863计划，创建于2000年，成长于国家02专项。经过多年的发展，公司先后攻克了国家863计划MO源全系列产品产业化、国家“02—专项”高纯电子气体（砷烷、磷烷）研发与产业化、ALD/CVD前驱体产业化等多个困扰我国数十年的项目，填补了多项国内空白。2017年，南大光电承担了集成电路芯片制造用关键核心材料之一的193nm光刻胶材料的研发与产业化项目。通过承担国家重大技术攻关项目并实现产业化，南大光电形成了MO源、电子特气、ALD/CVD前驱体材料和光刻胶四大业务板块。

二、公司产品与服务

南大光电的产品主要包括MO源、电子特气、光刻胶及配套材料等，广泛应用于集成电路、LED、平板显示、光伏等领域。公司的产品以高于国际平均质量的水平，销往全球多个国家和地区，与国内外重要的集成电路、LED优秀企业形成了良好的合作关系。



MO源：MO源是金属有机化合物的简称，是制备半导体材料的重要前驱体。南大光电是国内唯一有能力进行高纯度MO源商业化量产的企业，产品在合成、纯化、分析、封装等技术上均已达到或接近国际先进水平，在国内拥有60%—70%的市场份额。
电子特气：电子特气是集成电路制造过程中不可或缺的关键材料之一。南大光电的电子特气产品包括砷烷、磷烷、硅烷等，纯度达到99.9999%以上，广泛应用于集成电路、LED、平板显示等领域。
光刻胶：光刻胶是集成电路制造过程中用于图形转移的关键材料之一。南大光电的光刻胶产品包括g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶等，广泛应用于集成电路、LED、平板显示等领域。
ALD/CVD前驱体材料：ALD/CVD前驱体材料是用于ALD（原子层沉积）和CVD（化学气相沉积）工艺的关键材料之一。南大光电的ALD/CVD前驱体材料产品包括氧化铝、氧化钛、氧化锌等，广泛应用于集成电路、LED、平板显示等领域。

三、公司技术实力

南大光电拥有一支高素质的研发团队，其中博士、硕士占比超过50%。公司先后承担了国家863计划、国家02专项、国家自然科学基金等多项国家和省部级科研项目，取得了一系列重要的科研成果。公司拥有多项自主知识产权的核心技术，其中发明专利授权量超过100项。



四、财务数据

2024年第一季度实现营业收入5.09亿元，同比增长27.88%；归属净利润8211.05万元，同比增长9.52%。

在财务数据方面，2024年第一季度南大光电的毛利率为46.17%，同比上升6.83个百分点；净利率为20.48%，较上年同期下降3.29个百分点。公司的加权平均净资产收益率为3.63%，较上年同期增长0.15个百分点；投入资本回报率为3.21%，较上年同期增长0.53个百分点。

数据来源--蒙查查网