弯道超车?纳米压印光刻或将是一条值得期待的路线
NIL同EUV光刻一样是次时代光刻技术的代表,随着其技术的日渐成熟已经具备导入集成电路制造的条件。日经新闻网称,对比EUV光刻工艺,使用纳米压印光刻工艺制造芯片,能够降低将近四成制造成本和九成电量,铠侠、
佳能 等公司则规划在2025年将该技术实用化。且不论能否替代当前主流的EUV光刻机,随着
苏大维格 “光刻机已发货”这个乌龙事件,纳米压印这个技术路线浮出水面被市场捕捉到并进行挖掘,其概念后续发酵值得我们投资者继续关注。
概念股梳理
苏大维格:公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售,并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口;同时,向上海微电子提供光刻机用的定位光栅产品。已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力,并在积极布局。
东方钽业 :独供混合SMB-EUV光源核心部件铌超导腔。子公司东方超导是国内唯一具有超导腔生产及后续处理产业链的公司,产品铌超导腔作为粒子加速器的核心部件,被广泛应用于同步辐射光源、自由电子激光、散列中子源等大科学装置。
$东方钽业(sz000962)$