国产替代空间巨大，路维冠石清溢宏大空间，重点推荐路维光电

光掩膜版行业推荐国产替代空间巨大，路维冠石清溢宏大空间，重点推荐路维光电

🔥近期随着光刻机大集团新闻持续发酵，光刻机、光刻胶、光掩膜版产业链备受关注。光刻掩膜版（Photomask），又称光罩、光掩膜等，是芯片制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体，是光刻机使用过程中，芯片精度和质量的决定因素之一。

🔥光掩膜版市值弹性巨大。中国半导体光掩膜版市场需求约100亿元，但路维和清溢合计仅2亿元收入，掩膜版国产替代空间巨大，国内130nm以下制程半导体掩膜版基本依赖于进口。按远期国产化率70%和20%净利率30x测算，中国半导体光罩企业合计市值有望约500亿元，叠加面板等其它领域需求，中国光罩企业合计市值有望达到600-700亿元。国内光掩膜版三巨头持续布局半导体掩膜版市场，冠石科技 （45亿元市值）、清溢光电 （65亿元市值）、路维光电（65亿元市值）合计约180亿元市值，全板块远期市值仍有100-200%以上空间。

🔥路维光电中国半导体和面板光罩龙头，近期拟20亿元投资28nm-130nm半导体掩膜版，达产后有望实现15亿元收入和3亿元净利润。公司与国内芯片龙头客户积极合作，未来技术实力有望持续加强，重点关注 $路维光电(sh688401)$