3)光刻设备
光刻是晶圆生产的核心环节,包括
光刻机和涂胶显影机。
我国的光刻机技术比较落后,最先进的上海微电子也只能量产90nm的沉浸式光刻机。
据报道,上海微电子将在2021年完成首台28nm国产光刻机的交付。
为了加快我国光刻机技术的进步,各方群策群力。
据悉,
张江高科参与了上海微电子的A轮融资,投资成本为2.23亿元。
业内预测,考虑在不同市值和不同IPO摊薄比例的情景下,张江高科有望获得26.6亿元到54.9亿元之间的税后投资收益(所得税率按25%)。
对我国光刻机技术形成瓶颈制约的,主要是光学精密元器件的落后。
该领域的龙头是茂莱光学,目前已获
科创板IPO受理,主要产品包括精密光学器件、高端光学镜头和先进光学系统三大类业务,覆盖深紫外DUV、可见光到远红外全谱段。
茂莱光学是上海微电子的核心供应商之一,2017-2019年,茂莱光学实现营业收入分别为1.52亿元、1.84亿元及2.22亿元,复合增长率达20.82%。
根据招股书,2019年公司实现了大视场大数值孔径显微物镜系列产品、高精度快速
半导体制造工艺缺陷检测光学系统的量产。
同时,也在不断突破紫外光学的加工和镀膜、大口径高精度透镜加工等各类技术,推进大口径干涉系统、光刻机光学系统、车载
激光雷达等高端镜头和系统的国产化研发。
除了在半导体业务的开拓,公司在AR/VR、自动驾驶等领域,也成功进入了
微软、脸谱、
谷歌旗下自动驾驶平台的供应链体系。
在涂胶显影机领域,
芯源微是行业龙头。
在国内的涂胶显影设备市场上,日本东京电子垄断了90%的份额,芯源微的市占率为5%左右,是我国唯一能突破28nm技术的公司。
公司自2018年实现量产突破,前道 I-line 涂胶显影机在长江存储上线进行了工艺验证,前道 Barc(抗反射层)涂胶设备在上海华力通过了验证。
2019年又陆续获得了青岛芯恩、上海积塔、
中芯国际、昆明
京东方、厦门士兰等多个客户的设备订单,截至目前已累计销售 800 余台套。
近年公司也开始切入湿法清洗设备领域,跟盛
美股份,
至纯科技和
北方华创等展开竞争。
小结:光刻机是主要瓶颈,茂莱光学的深紫外DUV光学技术正在研发中。