最全的大基金二期产业链(全景图+文字版)小散自我修养 2020-02-24 21:36:43
这是详细分析记录下来的大基金二期产业链
第一部分设备第二部分第三部分应用设备光刻机(国产化率0%)(信息)---- 荷兰的ASML-家独大,占了全球70%的高端光刻机市场。
---- 国内光刻机完全依赖进口,目前国内光刻机技术最先进的就是上海微电子,但是能量产的最好的也是90nm光刻机。
(个股)----(未上市)
上海微电子:国内唯一的一家从事光刻机研发制造的公司。目前制造用光刻机只能做到 90nm。
---- 粤芯
半导体 ---- 购买多台荷兰ASML光刻机(10台+),官微回复华为和大基金二期有接洽
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智光电气占比15%,智光电气法人和总经理陈谨先生也是粤芯半导体董事长。
刻蚀机(国产化率15%)(信息)---- 干法刻蚀和湿法刻蚀,其中湿法刻蚀需要大量用到氢氟酸。
(个股)----
中微公司(稀缺度)---- 中微半导体的产品已经可以进入
台积电7nm工艺制程。
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北方华创----综合性半导体设备厂商,北方华创的硅刻蚀机也已经进入市场。
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万业企业----收购凯世通:离子注入机。
薄膜设备(沉积/薄膜设备15% ) ----
北方华创、
中微公司。测试设备北方华创一刻蚀机、 PVD设备 ---- 主要设备有刻蚀机、沉积PVD\CVD、 氧化炉、扩散炉、清洗机等,应该说是A股中产业链最全的设备公司,其中刻蚀机和PVD设备 已经达到业内领先水平。下游主要客户有
中芯国际、华虹半导体、合肥、长江存储等。
长川科技一测试机、 分选机----公司只做这两个设备, 其中测试机占45% ,分选机占55%,由于测试机仍然被海外主导 ,所以国产替代依然有很大空间。
精测电子光学 检测设备----9月初,子公司增资5.5亿,大基金出资1亿,获得大基金投资。
清洗设备材料新材料---- 光刻胶,氟聚酰亚胺,高纯度氟化氢。
---- 半导体用光刻胶,靶材,石英。
---- 碳纤维,陶瓷材料。
---- 石墨烯,超导材料。
---- 碳化硅(SIC) - 氮化镓(Gan)。
芯片材料(信息) ---- 硅片,成本占比37%、主流12寸以上硅晶片基本依赖进口。
---- 电子气体,成本占比14%,对外依存度超过80%。
---- 光刻胶及配套试剂,成本占比12%,且呈不断提升趋势,基本依赖进口。
---- CMP抛光材料,成本占比7% ,国产化率不到10%。
---- 靶材,成本占比3%,大部分依赖进口。
(方向)---- 硅片 ----
上海硅产业(拟科创板上市)。
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中环股份 ---- 光伏硅片+半导体硅片(产量低,主要是8英寸的),12英寸的正在投资。
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上海新昇 ----
上海新阳:2019年3月18日公告,公司持有上海新昇半导体科技有限公司27.56%的股权,上海硅产业集团股份有限公司持有上海新昇72.44%的股权。因上海新昇经营发展需要,公司拟将持有的上海新昇26.06%的股权转让给上海硅产业,上海硅产业采用增发股份购买资产的方式进行交易,交易对价为48,236.23万元。交易完成后,公司将获得上海硅产业147,136,600股份,仍持有上海新昇1.5%的股权,上海硅产业持有上海新昇股权增加为98.5%。
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晶盛机电 ---- 硅晶圆。
----电子气体 ----
三孚股份 ---- 三氯氢硅行业龙头 业绩一直健康 还有在建的产能。
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雅克科技 ---- A,半导体新材料龙头企业。主要涉及 SOD、前驱体、含氟特气、封测用硅微粉等半导体核心材料领域,覆盖半导体薄膜沉积、刻蚀、清洗、封测等半导体核心环节 B,下游客户包括 SK 海力士、三星电子、台积电、中芯国际、长江存储等世界知名半导体厂商 C 大基金目前持有上市公司5.73的股份。
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南大光电 ---- A,电子特气积极扩产 B,投资并购飞源气体(57.97%股权)。
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杭氧股份 ---- 公司布局半导体供气项目。业绩值得期待。
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巨化股份。
----CMP抛光材料 ----
安集科技 ---- CMP 化学机械抛光液:国产唯一供应商。
---- 光刻胶去除剂:国产技术领先供应商。
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鼎龙股份 ---- CMP 抛光垫纳入“02 专项”,2019年上半年获首张12 寸订单放量在即。
---- 公司一期二期项目合计30 万片产能已经基本就绪,全部达产后预计贡献营收10 亿元,税后净利3.5 亿元。
---- 光刻胶及配套试剂 ----
芯源微 ---- 主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售。产品包括光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备。公司涂胶/显影机成功打破国外厂商垄断,在LED 芯片制造及集成电路制造后道先进封装等环节,已成功实现进口替代。同时,公司成功突破了晶圆加工环节的涂胶显影设备技术,成型产品目前正在长江存储、上海华力等前道芯片制造厂商进行工艺验证。
---- 个股较多 ---- 半导体高端光刻胶市场超过 90%市场份额被日本住友信越化学、JSR、TOK、美国陶氏等公司占据,按光源敏感度可以分为 i 线光刻胶(365nm)、KrF 光刻胶(248nm)、ArF 光刻胶(193nm),EUV(157nm)。其中高端的 ArF 光刻胶是集成电路 22nm、14nm 乃至 10nm 制程的关键,EUV光刻胶处在整个半导体原材料的顶端。
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晶瑞股份:子公司苏州瑞红在国内率先实现 i 线光刻胶的量产,可以实现 0.35μm 的分辨率,已通过中芯国际天津厂上线测试并取得供货订单。公司 KrF 光刻胶(248nm)光刻胶正在研发之中。
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容大感光:公司的光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品,公司生产的光刻胶曝光波长涵盖紫外宽谱、G线(436nm)、I线(365nm)等。主要应用于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。
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南大光电:2017 年启动 193nm ArF 光刻胶开发项目,2019年加大对ArF 光刻胶(193nm)光刻胶的研发投入力度,2019年公司研发费用投入比去年同期增加一倍。
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上海新阳:经过近三年的研发ArF 光刻胶(193nm),关键技术已有重大突破,已从实验室研发转向产业研发。
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飞凯材料:公司的光刻胶目前没有在IC领域的应用,主要目标应用于TFT-LCD行业。
---- 靶材 ----
有研新材。
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阿石创。
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江丰电子。
其它 超高纯化学试剂(湿电子化学品)---- 国内湿电子化学品主要通过进口为主,80%依赖进口。
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江化微:国内湿电子化学品龙头,产品包括酸蚀刻液、剥离液、硝酸、硫酸、氢氟酸等。
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晶瑞股份:微电子化学品龙头,生产中高端氢氟酸、硝酸、光刻胶。其双氧水、氨水、硝酸已达到 ---- SEMI G5 的标准,打破国外垄断。
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上海新阳:半导体制造电镀液、晶圆加工用清洗剂等。生产的电镀硫酸铜溶液已经能在 8~12 英寸的产线中应用。
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光华科技:国内 PCB 化学品龙头。孔金属化镀铜、镀镍金、镀锡和棕化液等产品应用在 PCB 制程中的多个环节,国内无竞争者。
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强力新材:光刻胶专用化学品龙头。分为光刻胶用光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂等)和光刻胶树脂两大系列。
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巨化股份:ppt 级(氢氟酸、硝酸、硫酸、盐酸、BOE、氟化铵、氨水)等。
应用----
人工智能。
---- 5 G。
---- 物联网。
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