全球首台!大型紫外3D直写光刻设备iGrapher3000投入运行
据
苏大维格官方,大型紫外3D直写光刻设备iGrapher3000,在苏大维格科技集团下线,并投入工业运行。iGrapher3000主要用于大基板上的微纳结构形貌的3D光刻,是新颖材料、先进光电子器件的设计、研发和制造的全新平台,堪称为光电子产业基石性装备,为产业合作创造
新机遇。iGrapher3000也可用于平板显示产业和柔性电子产业的光掩模制备,并为高精度大口径薄膜透镜的设计制备提供了战略研发资源。
方正证券陈杭指出,目前全球前道光刻机被ASML、尼康、
佳能完全垄断,CR3高达99%。在当前局势下,实现光刻机的国产替代势在必行,具有重大战略意义。上市公司中,苏大维格目前拥有的光刻设备可用于柔性电子、MEMS以及特定领域
半导体等产品的研发与制造;
晶方科技收购的荷兰ANTERYON公司最主要客户之一包括ASML。