露笑科技，宽禁带半导体行业深度：SiC 与 GaN 的兴起与未来

突破 Si 的瓶颈，SiC/GaN 具备性能上的优势。Si 作为集成电路最基础的材料，构筑了整个信息产业的最底层支撑。人类对 Si 性能的探索已经非常成熟，然而一些固有的缺点却无法逾越，如光学性能、高压高频性能等。与此同时所谓第三代半导体（宽禁带半导体）以其恰好弥补 Si 的不足而逐步受到半导体行业青睐，成为继 Si 之后最有前景的半导体材料。随着 5G、汽车等新市场出现，SiC/GaN 不可替代的优势使得相关产品的研发与应用加速；随着制备技术的进步，SiC 与 GaN 器件与模块在成本上已经可以纳入备选方案内，需求拉动叠加成本降低， SiC/GaN 的时代即将迎来。 SiC：极限功率器件的理想材料。SiC 器件相对于 Si 器件的优势主要来自三个方面：降低电能转换过程中的能量损耗、更容易实现小型化、更耐高温高压。SiC 最大的应用市场来自汽车，与传统解决方案相比，基于 SiC的解决方案使系统效率更高、重量更轻及结构更加紧凑。目前 SiC 器件在EV/HEV 上应用主要是功率控制单元（PCU）、逆变器、DC-DC 转换器、车载充电器等方面。全球 SiC 产业格局呈现美国、欧洲、日本三足鼎立态势。其中美国全球独大，占全球 SiC 产量的 70%~80%；欧洲拥有完整的SiC 衬底、外延、器件以及应用产业链；日本是设备和模块开发方面的领先者。中国企业在衬底、外延和器件方面均有所布局，但是体量均较小。