颇具潜力的射频、高速数字电路材料
砷化镓、氮化镓MMIC芯片作为手机生产的重要器件,20世纪90年代中期就已取代了射频、微波领域里低性能硅基集成电路而成为无线通讯产业不可或缺的IC元件。因其工艺制造比硅器件困难大,以前国内尚无一家成熟的生产厂家,所需的射频功率芯片(GaAs MMIC 、GaN MMIC)主要依赖进口,这对我国半导体产业和通讯产业特别是即将推广应用的5G技术发展构成了重大屏障。在国家政策和资金大力支持下,经过多年的技术积累和发展,从材料砷化镓(GaAs)、氮化镓(GaN)到芯片GaAs MMIC 、GaN MMIC 实现重大突破基础上,2018年北京双仪投资10亿元在
北京建设月产2万片6吋砷化镓单片集成电路(GaAs MMIC)规模化量产生产线,
海特高新投资14.2亿元建设6吋年产4万片GaAs MMIC、3万片GaN MMIC生产线,并都将在2019年初投产,以满足国内5G等市场对砷化镓MMIC和氮化镓MMIC芯片的迫切需求,扭转我国依赖进口的不利局面。
砷化镓(GaAs)、氮化镓(GaN)作为时下新兴的半导体工艺技术,尤其在高频率、高功率、高温度环境下实现的电源转换效率、功率密度、宽带稳定性等性能飞跃,成为光学存储、激光打印、高亮度LED 和无线通讯特别是无线网络5G基站(移动通信、无线网络、点到点和点到多点通信)、手机、军工领域无可比拟的重要而关键器件。作为光电子、宽禁带半导体材料中耀眼的新星,GaAs 在5G通讯、物联网、OLED、
太阳能电池等技术中的应用代表了当前和未来发展方向之一,作为有潜力的光电子材料,不但从生产到应用已经很成熟,而且稳定性和不错的性价比以及深加工后产品价值具有10倍的放大系数,未来市场也将保持9%的年均增速;GaN应用还有待开发、但却可以在更高频率、更高功率、更高温度下工作,在光学存储、激光打印、高亮度LED 以及无线基站等领域的应用前景受到关注,在高亮度LED、蓝光激光器和功率半导体领域是颇受欢迎的材料。
有研新材全资子公司有研光电作为国内红外材料龙头企业,拥有世界最大、国内唯一的砷化镓(GaAs)单晶生产线和我国
先进半导体材料、红外光学材料主要研发生产基地,是全球红外LED衬底片最大供应商。主要产品锗单晶、砷化镓单晶、四氯化锗等新型光电材料,其中作为高频率、高功率、低噪声射频核心芯片材料,砷化镓-GaAs单晶在移动、光、雷达、卫星、电力等领域的应用2016年全球应用占比达79%。在军民融合、安防、智能传感及即将商用的5G产业发展的
新机遇下,以射频核心材料GaAs为代表的芯片光电材料市场将迎来快速增长期。砷化镓具有的巨大需求,将成为公司另一个颇具有潜力的产品。