此新闻能否引爆明天的芯片概念

·大新闻！中国研制成功世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备·11月29日，由中国科学院光电技术研究所承担的超分辨光刻装备项目在成都通过验收，作为项目重要成果之一，中国科学家研制成功世界上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备，并形成一条全新的纳米光学光刻工艺路线，具有完全自主知识产权。据介绍，该项目组经过近7年攻关，突破多项关键技术，完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。@中国新闻网