守望高新：深度挖掘创投板块(转自守望高新老师)

 
第一条
  2016年4月28日，清华大学成功研发光刻机核心设备双工件样机
  光刻机是制造大规模集成电路  的核心装备  。为将设计图形制作到硅片上，并在2～3平方厘米的方寸之地集成数十亿晶体管，光刻机需达到几十纳米甚至更高的图像分辨率。而光刻机两大核心部件之一的工件台，在高速运动下需达到2nm（相当于头发丝直径的三万分之一）的运动精度。由此奠定了光刻机超精密工件台技术在超精密机械制造与控制领域的最尖端地位，被称为超精密技术皇冠上的明珠。
  项目由清华大学机械工程系朱煜教授担任负责人，以研制光刻机双工件台系统样机为目标，力争为研发65-28nm双工件台干式及浸没式光刻机提供具有自主知识产权的产品级技术。项目联合了华中科技大学、上海微电子  装备有限公司和成都工具所等3家单位，下设10个课题。清华大学机械工程系、精密仪器系和材料学院分别承担了其中6个课题，机械工程系IC装备团队承担了样机集成研发等核心科研任务。
  光刻机运动控制其中系统由华中科技大学和华中数控共建的国家数控系统工程研究中心研发。并设有光刻机运动控制团队：
  团队负责人：周云飞教授
  教师队伍：2人，其中教授1人，副教授1人 ；博士研究生：4人 ；硕士研究生：9人。
  目前的研究方向： 数控和IC装备技术研究
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查了很多公司的资料，没看到这个呢？请教！
[引用原文已无法访问]

     
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