真正的大国重器奥普光电

光刻机，光刻机，光刻机，重要的事情说三遍，秒杀华峰股份一亿光年


Epolith A1600是我国首台全自主知识产权的90nm节点ArF光刻机曝光光学系统，其研发成功代表我国在高端光刻机曝光光学系统 领域成功打破国外技术垄断，标志着我国超精密光学事业实现了从无到有的历史性跨越，书写了中国高端制造 的新篇章。

中国研究团队九年出一大科技成果 首套国产高端光刻机成功曝光！

中国首套90纳米高端光刻机，是由两个团队联合研发而成。一个团队是长春光学精密机械和物理研究所、应用光学国家重点实验室，另一个团队是中科院上海光学精密机械研究所。
“九年风云磨一镜” 中国首套高端光刻机曝光！90纳米光刻机通过验收测试
中国半导体行业协会副理事长、中科院微电子所所长叶甜春25日在IC China高峰论坛上表示，发展装备是为了壮大本土供应链支撑半导体制造行业的发展，国内装备在薄膜、溅镀、刻蚀工艺领域都已经取得突破进展，但目前最前端的光刻机仍是最困难的一个环节。
他指出，中国首套光刻机曝光系统研发，可以说是目前是全世界难度最高的超精度技术，尤其在超精密光学领域, 需要关键技术自主研发。而当前中国已经在此领域取得初步的突破。

.....曹健林称，光刻机的研发过程严格按照里程碑节点进行控制与设计，并建立综合设计、加工、镀膜、装配、测试、装调全工艺过程的像质预测模型。2015年7月已经完成装配，其后展开物镜测试台的精度提升工作；2016年9月物镜系统已经交付，整个大硅片都已经进行分布式测量；2017年7月首次曝光成功；2017年10月曝光光学系统在整机环境下通过验收测试