奥普光电，芯片制造核心是光刻机，光刻机核心是镜头

这才是芯片差距所在

主力太猥琐了

光学才是核心啊，尼玛

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所始建于1952年，1999年由中科院长春光机所（前身为始建于1952年的仪器馆和始建于1953年的机电研究所）与中科院长春物理所（前身为始建于1958年的吉林分院技术物理所）整合成中国科学院长春光学精密机械与物理研究所。[1]
研究所主要研究方向是发光学、应用光学、光学工程、精密机械与仪器的研发生产，先后参加了“两弹一星”、“载人航天工程”等多项国家重大工程项目

但是，我国的刻蚀机已经取得突破，今年播出的《大国重器》第二季有过重点介绍，所以美国已在2015年解除对中国的刻蚀机封锁。

所以光刻机才是需要攻破的

2002年SMEE成立，是中国政府为了填补光刻机空白而立项。贺荣明去德国考察时，有工程师告诉他：“给你们全套图纸，也做不出来。”贺荣明几年后理解了这句话。
并不是说图纸不重要，贺荣明说，如何将系统的误差分配到子系统，设计有高下之分。但顶级光刻机也需要细节上的技术洁癖。“一根光纤，一行软件编码，一个小动作，如果不兢兢业业做好，整个系统就不优秀。”贺荣明说。
“发展光刻机，需要高素质的人群。所以我们做来做去，做最多的是培养人，改变人。”贺荣明说，这需要他们用五十年一百年的长远眼光去做事情，而不是期望几个月解决问题。
如今SMEE每年增加数百项专利，活得很好，以中低端市场支持高端研发。而国际巨头仍在前进，发展浸没式光刻机（光在水中波长更短）、磁悬浮驱动（减少工作面震动）、反射镜代替透镜技术、真空腔体的极紫外光学系统……