NanoCrystal200 纳米光刻功能
NanoCrystal200具有阵列纳米器件、曲线纳米分布和亚纳米精度的结构调控的性能。光斑内部的线宽任意可调,光斑范围变化5微米-80微米,光斑平铺并曝光频率100次/s-2000次/s。
可变微纳结构尺度,线宽从100nm变化到10um,调节精度:0.1nm-10nm。
可变纳米结构分布:连续调控结构取向和分布。
每次光斑(像素)内结构尺度和类型均精确设定。
更换位相元件,不仅可光刻直线,同时也可实现曲线和点阵,如全息透镜、菲涅尔透镜阵列(可调焦点离轴位置和焦距长度)
通过微光栅组合,可以制备各种复杂微纳结构分布和器件
NanoCrystal200为研究纳米结构器件的特性,提供了先进、高效的技术手段。尤其在超颖材料、裸眼3D显示、光子晶体、HB-LED纳米图形衬底制备等方面(参见: HB-LED纳米光刻设备NanoCrystal8),提供了前沿性和实用性纳米光刻工具。
NanoCrystal200,是一款国际领先的纳米图形光刻设备。下图给出了不同类型纳米结构光刻SEM结果照片
NanoCrystal200用途
超材料结构特性研究 纳米透镜、全息透镜制备 裸眼3D显示的纳米导光板 光子晶体阵列制备 裸眼3D显示的纳米尺度背光源研究 其他复杂纳米结构的光刻研究 LED/OLED纳米衬底 全息图 衍射光学元件 连续可变焦距菲涅尔透镜阵列研究参见:裸眼3D显示的纳米导光板的预研进展
下载 NanoCrystal200的技术说明