国家信息光电子创新中心专家委员会主任余少华院士表示:“硅材料来源丰富,成本低,机械性能、耐高温能力非常好,便于芯片加工和封装。借助集成电路已大规模商用的CMOS工艺平台实现硅光芯片的生产制造,可以有效解决我国高端光电子芯片制造能力薄弱、工艺能力不足的问题。不过,硅材料属间接带隙半导体材料,需要解决硅基光源加工和众多光元件集成难题;硅材料不存在线性电光效应和光电探测功能,也需要解决调制器加工和锗硅外延生长难题。加上硅光芯片对高端光器件的带宽、集成度、性能、功耗、可靠性和成本等要求极高,使得多年来硅光芯片一直是我国光通信行业的一只拦路虎。此次工信部主导成立国家信息光电子创新中心,及时推动四家单位通力合作实现了100G硅光芯片的产业化商用,不仅展现出硅光技术优势,也表明我国已经具备了硅光产品商用化设计的条件和基础。我们十分期待未来几年硅光技术在光
通信系统中的大规模部署和应用,推动我国自主硅光芯片技术向超高速超大容量超长距离、高集成度、高性能、低功耗、高可靠方向发展。”