华中数控——工业互联网之外，它还是大国重器+光刻机芯片概念股！

华中数控，该股已经成为工业互联网的第二波龙头，是阿里巴巴 进入物联网这一事件的最正宗龙头！


但其实它还有两个非常牛逼的属性，未被挖掘出来！那就是大国重器和光刻机概念！
（一）大国重器概念
这个概念已经挖掘出了江丰电子 、航发控制 等牛股，而华中数控也是大国重器。
3月4日晚，大国重器（第二季）第七集《智造先锋》在CCTV-2财经频道首播，华中数控作为数控系统行业的代表亮相大国重器。

霸气非凡的华中数控董事长陈吉红：“我们的目标就是要。打破在这个领域，中国的被动局面！”

华中数控 还是创业板唯一已经被美国认（制）证（裁）了的中国核心高科技企业！（请看下面美国对华中数控的制裁）完全可以这么说，美国人贸易战要对付的，就是华中数控这类大国重器！




狠狠的打脸美国！白宫高级贸易顾问纳瓦罗说，该清单（贸易战征税对象）将主要聚焦“中国政府希望力推的高科技行业”，即“中国制造2025”所确定的行业。
（二）芯片光刻机概念
芯片股是最近一年的大主线，之前的紫光国芯 士兰微 江丰电子，最近的诚迈科技 、必创科技 都是大牛股。
光刻机的价值大家都了解，请看下面两条新闻，华中数控，绝对是当前市场被忽略的芯片概念股。
第一条
2016年4月28日，清华大学成功研发光刻机核心设备双工件样机
光刻机是制造大规模集成电路的核心装备。为将设计图形制作到硅片上，并在2～3平方厘米的方寸之地集成数十亿晶体管，光刻机需达到几十纳米甚至更高的图像分辨率。而光刻机两大核心部件之一的工件台，在高速运动下需达到2nm（相当于头发丝直径的三万分之一）的运动精度。由此奠定了光刻机超精密工件台技术在超精密机械制造与控制领域的最尖端地位，被称为超精密技术皇冠上的明珠。
项目由清华大学机械工程系朱煜教授担任负责人，以研制光刻机双工件台系统样机为目标，力争为研发65-28nm双工件台干式及浸没式光刻机提供具有自主知识产权的产品级技术。项目联合了华中科技大学、上海微电子装备有限公司和成都工具所等3家单位，下设10个课题。清华大学机械工程系、精密仪器系和材料学院分别承担了其中6个课题，机械工程系IC装备团队承担了样机集成研发等核心科研任务。
光刻机运动控制其中系统由华中科技大学和华中数控共建的国家数控系统工程研究中心研发。并设有光刻机运动控制团队：
团队负责人：周云飞教授
教师队伍：2人，其中教授1人，副教授1人 ；博士研究生：4人 ；硕士研究生：9人。
目前的研究方向： 数控和IC装备技术研究

第二条
华中科技大学国家光电实验室首次实现 9nm 线宽光刻

2016年底，华中科技大学国家光电实验室目前利用双光束在光刻胶上首次完成了 9nm 线宽，双线间距低至约 50nm 的超分辨光刻。未来将这一工程化应用到光刻机上可以突破国外的专利壁垒，直接达到 EUV 的加工水平。
2014年10月瑞典皇家诺贝尔奖委员会决定将当年的诺贝尔化学奖授予打破光学衍射极限发明超分辨率光学显微技术的三位科学家，以表彰他们在超分辨率光学成像方面的卓着贡献。其中斯蒂芬·黑尔教授发明的STED超分辨技术采用二束激光，一束激发激光(Exciting Laser Beam)激发显微镜物镜下的荧光物质产生荧光，另外一束中心光强为零的环形淬灭激光(Inhibiting Laser beam)淬灭激发激光产生的荧光。这两束光的中心重合在一起，使得只有处于纳米级环形淬灭激光中心处的荧光分子才能正常发光，通过扫描的办法就可以得到超越衍射极限的光学成像。
遵循这个思路，华中科技大学国家光电实验室的甘棕松教授在国外攻读博士学位期间，采用类似方法在光刻制造技术上取得进展，成功突破光学衍射极限，首次在世界范围内实现了创记录的单线 9nm 线宽，双线间距低至约 50nm 的超分辨光刻。未来将这一技术工程化应用到光刻机上，能够突破光学衍射极限对投射电路尺寸的限制从而实现超分辨光刻，有望使国产集成电路光刻机摆脱一味采用更短波长光源的技术路线。
采用超分辨的方法突破光学衍射的限制，将光聚集到更小的尺寸，应用到集成电路光刻可以带来两个方面的好处：一方面可以实现更高的分辨率，不再需要采用更短波长的光源，使得光刻机系统造价降低;另外一方面采用可见光进行光刻，可以穿透普通的材料，工作环境要求不高，摆脱 EUV 光源需要真空环境、光刻能量不足的羁绊。
与动辄几千万美元的主流光刻机乃至一亿美元售价的 EUV 光刻机相比，超分辨光刻硬件部分只需要一台飞秒激光器和一台普通连续激光器，成本只是主流光刻机的几分之一。该系统运行条件比紫外光刻温和得多，不需要真空环境，不需要特殊的发光和折光元器件，和一般光刻系统相比，该系统仅仅是引入了第二束光，系统光路设计上改动比较小，光刻机工程化应用相对容易，有希望使国产光刻机在高端领域弯道超车、有所突破。