离子注入机国产龙头，“1+N”平台成长快

600641 万业企业：离子注入机icon国产化率较低，自主可控icon驱动下国产替代需求较强。离子注入icon技术壁全仅次于光刻、刻蚀icon、薄膜沉积，中性预估仅2022-2026年中国大陆新增12英寸晶圆产能扩产，对离子注入设备的需求将达到520亿元。离子注入机为前道国产化率最低的环节之一，2022年1-10月份华虹无锡和积塔半导体招标中国产化率仅为3%，国产替代空间较大。在本土供应商中，子公司凯世通聚焦价值量占比较高的低能大束流和高能离子注入设备，看好国产设备商由1至下快速放量。
公司在稳固离子注入设备国产龙头地位的同时，横向拓展薄膜沉积、刻蚀等市场规模更大的设备环节，实现“1+N”平台化发展，纵向基于CompartSystems布局半导体设备零部件领域，不断打开成长空间。离子注入机：2022H1凯世通累计新增集成电路设备订单超过7.5亿元，在手订单饱满，业绩有望迎来高速增长。横向：2021年公司与宁波芯恩共同设立嘉芯半导体，覆盖薄膜沉积、刻蚀、清洗、热处理等设备，累计新增订单超过3.4亿元（截至2022年中报披露），平台化发展快速推进。纵向：2020年12月公司率头收购全球半导体设备零部件龙CompartSystems，进一步加强在半导体设备领域的产业协同效应，夯实核心竞争力。