苏大维格股票异动解析

12月09日苏大维格 股票异动解析

涨跌幅：14.93%
板块异动原因：
其他；
个股异动解析：
光伏电池铜电镀+光刻机+反光材料
1、公司掩膜板+曝光方案比LDI方案效率更高，理论效率可以做到LDI方案的两倍。曝光机为铜电镀价值量最高的设备，HJT设备龙头公司明年中试线将采用掩膜曝光方案，成立合资公司深度合作，单GW价值量超过3000万，对应25年市场空间30亿，给予30%净利率和50%份额，对应5亿利润。公司产品已出货其他铜电镀客户，明年GW级订单有望落地。
2、公司激光转印设备进展不慢于帝尔激光 ，且纳米压延技术精度更高，可将栅线做得更为整齐，目前在润阳进行中试。激光转印设备大概6000万/GW，25年350GW假设1/3使用激光转印，20%份额+20%净利润率对应2.8亿利润。
3、近期传闻荷兰光刻机巨头阿斯麦 将对国内光刻机供应限制，公司在光刻领域有着很深的积累，一旦阿斯麦对国内光刻机限制出口，苏大维格的光刻技术可以转移至华为等产线。
4、公司推出了公共安全材料、新型印刷材料、导光材料、柔性透明导电膜、中大尺寸电容触控模组和特种装饰膜等产品，并在积极布局 TOF/DOE、VR/AR、太阳能 光伏电池铜电镀方案与金属电极膜等领域的产品和产业化应用。
5、公司通过外延式并购收购了华日升，进入反光材料与反光制品领域，主营各个等级和规格反光膜、发光膜、反光布以及多种反光制品。 $苏大维格(sz300331)$