被誉为芯片命门的
光刻机一直是压制我国
半导体行业发展的一个卡脖子领域,也是半导体发展绕不过去的环节,光刻机是目前晶圆制造产线中成本最高的半导体设备。根据格罗方德,光刻设备约占晶圆生产线设备成本27%,光刻工艺占芯片制造时间40%-50%。光刻机研发到底有多难?
做出一个芯片大概需要3000步工序,由于每一步都是“硅上雕花”,有一定失败概率,三千步下来,要想让最终的成品合格率大于95%,那么每一步的失败率就必须小于0.001%。
为了达到这种效果,最先进的光刻机上有10w个零件,什么概念?一辆汽车的零件大概是5000个零件。所以可以看出光刻机的精密程度是什么级别的。光刻机技术壁垒高且投资占比大,芯片尺寸的缩小以及性能的提升严重依赖于光刻技术的发展。
国内产线中,光刻机一直依赖进口。ASML、
佳能 以及尼康是光刻机主要供应商,其中ASML在高端市场一家独大并且垄断EUV光刻机。从光刻机总体出货量来看(含非IC前道光刻机),目前全球光刻机出货量99%集中在ASML,尼康
和佳 能。其中ASML份额最高,达到67.3%,且垄断了高端EUV光刻机市场。ASML技术先进离不开高投入,其研发费用率始终维持在15%-20%,远高于Nikon和Canon。
而就在今天,据半导体行业联盟透露,2月7日,上海微电子举行首台2.5D/3D先进封装光刻机发运仪式,这标志着尾我国首台2.5D/3D先进封装光刻机正式交付客户。
上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)是国内光刻机制造的领军企业,公司主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、
LED、Power Devices等制造领域。虽然可能在制程上我们和ASML还有差距,但是可以看得出来,在这个卡脖子领域,我们已
经开 始突围,我们已经开始制造属于我们的光刻机,随着我们的技术不断提高,将来一定能够做出更加先进的光刻机,从而打造我们国家自己的半导体帝国。
简单挖掘了一下跟上海微电子光刻机相关的标的,供大家参考。
$苏大维格(sz300311)$: 公司向上海微电子提供了光刻机用的定位光栅产品,该器件是该公司光刻机产品的重要部件。公司长期从事
激光直写光刻机的研制,尤其在用于新一轮光子
传感器的纳米光刻机研制领域积累了丰富且较为完善的技术经验,可为国内外高等院所和企业提供自主可控的直写光刻技术和光电子材料与器件技术方案。
海立股份 :2021年10月26日下午,海立集团与上海微电子装备集团举行战略合作协议签约仪式。微电子装备集团董事长干频指出,海立集团在我国制冷压缩机行业具有领先地位,双方已经形成了良好的合作基础。希望双方以封装光刻机的冷却系统配套为起点,进一步提升合作能级,逐步从零部件级供应合作提升为系统级供应合作。值得注意的是海立集团与上海微电子同属
上海电气 集团。
金力泰 : 公司控股子公司上海金杜新材料科技有限公司于2020年11月5日收到上海微电子装备(集团)股份有限公司签署的《外协件采购通用条款》,上海金杜正式成为上海微电子的合格供应商。
张江高科 :参股上海微电子装备(集团)股份有限公司10.779%的股权。