南大光电股票异动解析

07月30日南大光电股票异动解析

涨跌幅：10.21%
板块异动原因：
芯片 半导体 ；芯片供不应求，光刻胶国产化加速。
个股异动解析：
光刻胶项目通过验收+大基金1.83亿战略增资
1、7月29日晚间公告，公司作为牵头单位，承担的国家科技重大专项(02专项)“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”之“先进光刻胶产品开发与产业化”项目通过专家组验收。该项目研发任务的圆满完成，预计将对公司光刻胶事业的未来发展产生积极影响。
2、大基金二期1.83亿战略增资公司控股子公司宁波南大光电，交易完成后持股18.33%，扩充资金实力的同时有利于增强公司与国内半导体设备、芯片制造头部企业的协同。
3、公司ArF光刻胶先后通过50nm闪存平台认证 和55nm逻辑电路平台认证，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，目前已完成两条光刻胶生产线的建设，光刻胶年产能将达25吨（干式5吨和浸没式20吨）。
4、公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售,是MO源产业化生产的企业,也是全球主要的MO源生产商；公司主要产品有MO源产品、高纯ALD/CVD前驱体、高K三甲基铝、硅前驱体和OLED材料。