多氟多，电子级氢氟酸自主国产，受益台湾和日美韩

目前世界上仅有少数公司可以生产电子级氢氟酸产品，特别是高端产品。电子级氢氟酸产能主要集中在中国大陆、台湾地区和日本，主要市场参与者是Stella Chemifa Corp、台塑大金、多氟多等厂商。由于技术壁垒高，高纯电子级氢氟酸的工艺仍难以突破，国内厂商主要生产EL、UP、UP-S级电子级氢氟酸，属电子级的中、低档产品，在品质和纯度方面较进口产品尚有差距，高端产品仍依赖进口。目前在国内已投产或在建的电子级氢氟酸生产商中，能达到半导体所用级别(UP-SS及以上)的企业仅有多氟多(G5或UP-SSS级别，能达到12寸晶圆使用需求)等为数不多的氟化工企业。多氟多已突破UP-SSS级电子级氢氟酸生产技术并具有相关生产线，也是全球为数不多能规模化生产高品质半导体级氢氟酸的企业之一。公司“新一代信息技术产业用超净高纯电子级氢氟酸关键技术开发及产业化”项目荣获河南省科技进步二等奖。

去年日本突然宣布对韩国暂停3种半导体核心原材料的供应，此举对韩国来说，无疑是一记重大的打击。这就使得三星、SK、LG等半导体和面板厂商，生产半导体所必须要使用的高纯度氢氟酸供应不足，为此韩国半导体企业已加快推进中国相关原材料的测试及使用速度，国产电子级氢氟酸顺利打开了韩国市场大门。
高纯度氢氟酸为强酸性清洗、腐蚀剂主要应用于集成电路（IC）和超大规模集成电路（VLSI）芯片的清洗和腐蚀，是微电子行业制作过程中的关键基础化工原料之一。
国内现有的氢氟酸提纯技术主要有正压精馏、负压精馏和亚沸蒸馏三种，其中亚沸蒸馏只适合实验室小量制备，不易工业化应用。正压精馏和负压精馏是应用最广泛的氢氟酸提纯方法。但是这些方法都只关注了砷等阳离子杂质的去除，阴离子杂质及氟硅酸成分的去除很少及，由于阴离子杂质在水相中形成硫酸盐、磷酸盐等稳定组分，氟硅酸成分在水相中稳定存在，阴离子杂质和氟硅酸(112SiF6)成分去除难度很大。
为了解决一问题，多氟多申请了一项名为“一种高纯氟化氢的制备方法及高纯氢氟酸”（申请号：201510342500.8）的发明专利，申请人为多氟多化工股份有限公司。
公司电子级氢氟酸产品的客户均为行业内的领先企业，公司持续开发了一批国内外优质客户，构建了优质的业务体系，拥有广泛而稳固的客户群体。已与德州仪器、重庆超硅半导体有限公司、上海华力微电子有限公司等多家国内8寸和12寸半导体客户建立合作关系，并成功切入韩国高端半导体供应链且持续稳定批量供应，出口数量位居国内前列。2020年上半年在国内12寸存储芯片领域取得重大突破，同时与日本及欧美半导体企业的接洽工作持续进行中。
宁夏盈氟金和科技有限公司是多氟多控股、金和化工国资参股的混合所有制企业。据当地媒体报道，该公司2万吨/年电子级氢氟酸装置计划今年10月1日建成投产，纯度高达99.999999999%。此外该公司5000吨/年氟硅酸制氢氟酸项目也将于今年8月开工建设。
据介绍，盈氟金和5000吨氟硅酸制氢氟酸项目今年8月也将开工建设，预计2021年8月建成投产。