光刻机7nm三大技术路线（张江高科）

23-09-12 20:44 12091次浏览

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光刻机

7nm三大技术路线：

1、DUV光刻机

上海微电子自主可控28nm的DUV光刻机已经量产。

（概念股：张江高科，上海电气，海立股份等）

2、EUV光刻机长春光机所攻克EUV光源技术，获得吉林省科技进步一等奖的18个奖项。

（概念股：奥普光电等）

3、纳米压印光刻

佳能纳米压印光刻技术目前具备了5nm以下制程芯片的量产能力，能将制造成本降低四成，耗电量降低九成。

（概念股：苏大维格，炬光科技等）

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